[实用新型]一种辐照自屏蔽设备有效

专利信息
申请号: 202021841408.9 申请日: 2020-08-28
公开(公告)号: CN213752000U 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 党星;史浩;刘晋升;王忠;陈怀璧;韩志伟;覃怀莉 申请(专利权)人: 江苏同威信达技术有限公司
主分类号: G21F3/00 分类号: G21F3/00
代理公司: 苏州市港澄专利代理事务所(普通合伙) 32304 代理人: 汤婷
地址: 213000 江苏省常州市金坛*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 辐照 屏蔽 设备
【权利要求书】:

1.一种辐照自屏蔽设备,其特征在于:具有自屏蔽结构(1),所述自屏蔽结构(1)安装在设备支架(2)上,所述的自屏蔽结构(1)由屏蔽底板(3)、屏蔽侧板(4)、屏蔽盖板(5)组成一个正面、背面、上面、下面完全封闭的通道,所述自屏蔽结构(1)通过若干开口交错的竖型屏蔽挡板将其区域分割成若干屏蔽空间,所述屏蔽底板(3)、屏蔽侧板(4)、屏蔽盖板(5)、竖型屏蔽挡板都是由屏蔽材料制造,位于所述自屏蔽结构(1)的中心区域内布置有射线源(7),传输线体(8)从自屏蔽结构(1)入口侧入口屏蔽挡板(6)开口处穿入自屏蔽结构(1),经过射线源(7)下方,从自屏蔽结构(1)出口侧出口屏蔽挡板(9)开口处穿出,经过自屏蔽结构(1)下方回到自屏蔽结构(1)的入口侧,所述传输线体(8)在自屏蔽结构(1)内多次弯折以穿过竖型屏蔽挡板开口,所述射线源(7)的正下方设有排风管道(24),用于排出辐照产生的臭氧。

2.根据权利要求1所述的一种辐照自屏蔽设备,其特征在于:所述传输线体(8)通过传输线入口平台(10)穿过入口屏蔽挡板(6),然后弯折向下穿过第二屏蔽挡板(12),然后折弯弧度向上与第二平台(13)连接,第二平台(13)穿过第三屏蔽挡板(14)后向下折弯进入第四平台(15),所述第四平台(15)依次穿过第四屏蔽挡板(16)与第五屏蔽挡板(17),所述射线源(7)位于所述第四屏蔽挡板(16)和第五屏蔽挡板(17)隔成的空间的正上方,所述第四平台(15)的运动方向的末端折弯向上与第五平台(18)连接,所述第五平台(18)穿过第六屏蔽挡板(19),所述第五平台(18)的末端向下到一定角度后折弯向上后穿过第七屏蔽挡板(20)连接出口平台(21),所述出口平台(21)穿过出口屏蔽挡板(9)后离开自屏蔽结构(1)。

3.根据权利要求2所述的一种辐照自屏蔽设备,其特征在于:输送线平台和屏蔽挡板的数量可根据射线源的辐射水平进行增减。

4.根据权利要求1所述的一种辐照自屏蔽设备,其特征在于:所述入口屏蔽挡板(6)和出口屏蔽挡板(9)的开孔上下两侧不是同平面的。

5.根据权利要求1所述的一种辐照自屏蔽设备,其特征在于:所述射线源(7)种类为电子束或X射线。

6.根据权利要求1所述的一种辐照自屏蔽设备,其特征在于:所述自屏蔽结构(1)上的屏蔽盖板(5)是可以分块开启的,每个可开启的屏蔽盖板(5)都设有限位开关(22)用于监控开关情况,保证使用中无辐射泄漏。

7.根据权利要求1所述的一种辐照自屏蔽设备,其特征在于:所述排风管道(24)由屏蔽材料制成,且经过多次弯折避免辐射泄漏。

8.根据权利要求1所述的一种辐照自屏蔽设备,其特征在于:所述自屏蔽结构(1)下方设置有传输线体清洗装置(23)。

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