[实用新型]金属抛光设备

说明书

本实用新型公开了一种金属抛光设备，包括搅拌槽、搅拌机架、搅拌马达、搅拌主轴、主搅拌盘、定位治具和控制系统，所述搅拌主轴能够转动的安装于搅拌机架上，主搅拌盘同轴固定套设于搅拌轴上，至少一个定位治具偏心固定安装于搅拌盘下侧面上，定位治具上能够拆卸安装有待抛光金属件，装有搅拌颗粒的搅拌槽恰位于主搅拌盘正下方，搅拌马达驱动搅拌主轴转动，控制系统控制搅拌马达转速和启停时间，本实用新型达到了无尘、无排放的环保抛光效果，抛光效率高，降低了人力成本。

技术领域

本实用新型涉及一种金属加工设备，特别涉及一种金属抛光设备。

背景技术

现有金属抛光工艺有二种，传统方式为使用砂纸类、布轮或尼龙刷做为加工介质，使用人力、抛光砂轮或机械手臂对金属表面进行打磨抛光的方式；必须先使用低目数较粗的介质进行表面粗抛，把表面严重凹凸不平缺点进行研磨，再使用高目数较细之介质进行表面精抛光，最后使用亮光腊对产品进行打蜡工序，进而产生光亮效果，由于此类抛光方式属直接物理性破坏，对于打磨过程中产生的粉尘无法避免，需要独立设置强力吸尘装置进行除尘，但也无法有效完全除去空间粉尘，甚至粉尘过量会产生尘爆的工安意外风险(如:2014年中荣尘爆事件)，且人员于工作期间，对吸入性粉尘过量也会对人体肺部造成永久性伤害；并由于工序多，使用人员也必须随之增多，而且人工抛光属于技术值，讲究手的灵巧运作，相对的也会有过度抛光，造成塌边、过抛等问题发生

另一种为震动(含磁力)研磨，使用震动石或钢针为介质，利用机台高速震动对产品表面进行撞击摩擦达到抛光效果，不过此类方式需加入研磨液与亮光剂，这类药水属强碱性，不能直接排放会对环境、水源造成严重污染，所以必须到合格污水处理厂区进行生产与安全排放，无形增加生产成本；且震动机产生之噪音也严重超过规定允许标准。

因此，目前现有的金属抛光方式，在工业安全生产上或环保问题上都会有存在高度风险或增加成本，且在人力成本上也是属于高度付出。

实用新型内容

为了克服上述缺陷，本实用新型提供了一种金属抛光设备，采用该金属抛光设备能够完全避免抛光环境中粉尘污染风险，亦没有环保排放的问题，提高了抛光效率，降低了人工成本。

本实用新型为了解决其技术问题所采用的技术方案是：一种金属抛光设备，包括搅拌槽、搅拌机架、搅拌马达、搅拌主轴、主搅拌盘、定位治具和控制系统，所述搅拌主轴能够转动的安装于搅拌机架上，主搅拌盘同轴固定套设于搅拌轴上，至少一个定位治具偏心固定安装于搅拌盘下侧面上，定位治具上能够拆卸安装有待抛光金属件，装有搅拌颗粒的搅拌槽恰位于主搅拌盘正下方，搅拌马达驱动搅拌主轴转动，控制系统控制搅拌马达转速和启停时间。

作为本实用新型的进一步改进，还设有升降驱动装置和升降滑块，所述升降滑块能够沿纵向升降运动的安装于搅拌机架上，搅拌主轴轴向止动且圆周方向能够转动的安装于升降滑块上，升降驱动装置驱动升降滑块纵向运动，控制系统控制升降驱动装置启停。

作为本实用新型的进一步改进，所述搅拌机架上还设有位置感应装置，所述位置感应装置能够升降滑块在搅拌机架上处于上限和下限的位置并传信于控制系统。

作为本实用新型的进一步改进，还设有子搅拌盘、传动轴和第一传动机构，所述至少一个传动轴能够转动的偏心安装于主搅拌盘上，子搅拌盘同轴固定的套设于传动轴上，至少一个定位治具偏心的安装于子搅拌盘上，搅拌主轴通过第一传动机构驱动各个传动轴同步转动。

作为本实用新型的进一步改进，还设有子搅拌轴和第二传动机构，至少一个子搅拌轴能够转动的安装于子搅拌盘上，传动轴通过第二传动机构驱动各个子搅拌轴同步转动，定位治具能够拆卸的安装于各个子搅拌轴上。

作为本实用新型的进一步改进，所述定位治具为快夹装置，待抛光金属件能够固定夹设于快夹装置的夹紧端，快夹装置的定位端能够套设于子搅拌轴外侧，所述子搅拌轴圆周外侧表面上间隔的设有至少一个径向插槽，快夹装置的定位端侧壁上设有径向能够伸缩的定位销，所述定位销能够插设于子搅拌轴的径向插槽内。