[实用新型]全光谱反射膜有效
| 申请号： | 202021621706.7 | 申请日： | 2020-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN213122342U | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 杨荣贵;翟怀伦;王明辉 | 申请（专利权）人： | 宁波瑞凌新能源科技有限公司;宁波瑞凌新能源材料研究院有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08 |
| 代理公司： | 杭州华进联浙知识产权代理有限公司 33250 | 代理人： | 储照良 |
| 地址： | 315000 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光谱 反射 | ||
1.一种全光谱反射膜，其特征在于，包括基膜和依次层叠设置于所述基膜上的第一反射层、第二反射层和第三反射层，所述第一反射层的厚度小于等于15nm，所述第三反射层的厚度大于等于25nm，所述第一反射层为银层或银合金层，所述第二反射层为铝层，所述第三反射层包括银层、银合金层、钛层、钛合金层中的一种。
2.根据权利要求1所述的全光谱反射膜，其特征在于，所述第一反射层的厚度为5nm-15nm；
及/或，所述第二反射层的厚度为30nm-40nm；
及/或，所述第三反射层的厚度为25nm-50nm。
3.根据权利要求1所述的全光谱反射膜，其特征在于，所述第一反射层和所述第二反射层之间还设置有第一阻隔层，所述第一阻隔层的厚度为4nm-20nm。
4.根据权利要求3所述的全光谱反射膜，其特征在于，所述第二反射层和所述第三反射层之间还设置有第二阻隔层，所述第二阻隔层的厚度为4nm-20nm。
5.根据权利要求4所述的全光谱反射膜，其特征在于，所述第一阻隔层包括金属氟化物层、金属氮化物层、半导体掺杂化合物层中的一种；
及/或，所述第二阻隔层包括金属氟化物层、金属氮化物层、半导体掺杂化合物层中的一种。
6.根据权利要求4所述的全光谱反射膜，其特征在于，所述基膜和所述第一反射层之间还设置有介质层，所述介质层的厚度为0.1nm-2.5nm。
7.根据权利要求6所述的全光谱反射膜，其特征在于，所述介质层包括金属层、金属氮化物层、半导体掺杂化合物层中的一种。
8.根据权利要求4所述的全光谱反射膜，其特征在于，所述第三反射层背离所述第二反射层的表面上还设置有保护层，所述保护层的厚度为0.1nm-25nm。
9.根据权利要求8所述的全光谱反射膜，其特征在于，所述保护层包括金属层、金属氮化物层、半导体掺杂化合物层中的一种。
10.根据权利要求4所述的全光谱反射膜，其特征在于，所述基膜的厚度为20μm-200μm，所述基膜的透光率大于等于80％。
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