[实用新型]一种膜厚控制装置及磁控溅射机

权利要求书

1.一种膜厚控制装置，其特征在于，包括与靶材(4)相邻设置的遮挡结构；所述遮挡结构包括支撑杆(1)，以及若干依次相邻设置的挡板(2)；所述挡板(2)位于所述靶材(4)的上方，且所述挡板(2)与所述支撑杆(1)活动连接；

所述遮挡结构还包括调节装置，所述挡板(2)与所述支撑杆(1)通过所述调节装置相连；

所述调节装置包括设置于所述挡板(2)上的导向孔(21)，以及设置于所述支撑杆(1)上的限位孔，所述限位孔与所述导向孔(21)相适配，所述导向孔(21)为长形孔，且所述导向孔(21)向所述靶材(4)的方向延伸；所述调节装置还包括与所述限位孔相适配的螺钉，以及与所述螺钉相适配的螺母(3)，所述螺钉依次穿过所述限位孔与所述导向孔(21)，通过将所述螺母(3)与所述螺钉相连，实现对所述挡板(2)以及所述支撑杆(1)的连接。

2.如权利要求1所述的膜厚控制装置，其特征在于，所述遮挡结构的数量为两个，两个所述遮挡结构分别设置于所述靶材(4)的两侧。

3.如权利要求1所述的膜厚控制装置，其特征在于，所述挡板(2)为方形的板状结构。

4.如权利要求1所述的膜厚控制装置，其特征在于，所述导向孔(21)的内侧设置有第一齿状结构，所述螺钉的外侧设置有与所述第一齿状结构相适配的第二齿状结构，所述第二齿状结构与所述第一齿状结构相啮合。

5.如权利要求1所述的膜厚控制装置，其特征在于，所述调节装置包括设置于所述支撑杆(1)上端的滑块，以及设置于所述挡板(2)下端的滑槽，所述滑块与所述滑槽相适配，所述滑槽为长形槽，且所述滑槽向所述靶材(4)的方向延伸。

6.如权利要求1～5任一项所述的膜厚控制装置，其特征在于，相邻设置的所述挡板(2)之间滑动连接。

7.一种磁控溅射机，其特征在于，包括如权利要求1～6任一项所述的膜厚控制装置。