[实用新型]离子注入机的作业平台

权利要求书

1.一种离子注入机的作业平台，其特征在于，包括EFEM、两个Loadlock、VTM和PTM，其中，EFEM、Loadlock和VTM沿着第一方向依次排布，两个Loadlock平行地设置于EFEM和VTM之间且每个Loadlock均皆与EFEM和VTM相连通，PTM在第二方向上与VTM相连，所述第一方向与所述第二方向不平行，其中，

EFEM用于在大气中传递硅片；

每个Loadlock用于在大气状态和真空状态中切换并且承载至少一片硅片；

VTM用于在真空状态下在每个Loadlock和PTM之间传输硅片，所述VTM包括：真空输运腔室、位于所述真空输运腔室中的两个搬运机器人和用于承载硅片的中转台；所述两个搬运机器人中，每个搬运机器人有一个可以独立动作的机械手；所述两个搬运机器人中的一个搬运机器人用于把Loadlock中的硅片传输到所述中转台，还用于把注入后的硅片从所述PTM输送到loaklock中；所述两个搬运机器人中的另一个搬运机器人把硅片从所述中转台送到所述PTM而进行注入加工，还可用于把硅片从所述PTM传输到所述中转台；

PTM用于在真空采用离子束对硅片进行加工，所述PTM包括工艺腔、位于工艺腔中的扫描机器人和离子束收集装置以及被传输至工艺腔中的离子束，其中离子束的传输方向与所述第一方向的锐夹角小于等于60°，所述扫描机器人用于接收并持有来自于搬运机器人的硅片并且将硅片翻转至注入平面以进行离子注入，

其中，所述第一方向和所述第二方向构成硅片的传输平面，所述注入平面和所述传输平面的锐夹角小于等于60°，所述注入平面和所述第一方向的锐夹角小于等于60°，所述离子束收集装置位于PTM的远离所述扫描机器人的一端并且在第二方向上与VTM相间隔。

2.如权利要求1所述的作业平台，其特征在于，VTM位于离子束的侧面，离子束传输方向的延伸线不与任一搬运机器人的动作范围交叉。

3.如权利要求1所述的作业平台，其特征在于，所述离子束为带状束流，所述带状束流的长边方向垂直于所述传输平面，所述扫描机器人用于在所示注入平面中移动硅片。

4.如权利要求1所述的作业平台，其特征在于，所述第一方向与所述第二方向的夹角大于等于60°。

5.如权利要求4所述的作业平台，其特征在于，所述第一方向垂直于所述第二方向。

6.如权利要求4所述的作业平台，其特征在于，所述中转台设置于两个搬运机器人之间。

7.如权利要求6所述的作业平台，其特征在于，沿着两个搬运机器人的中心连线方向来看，所述中转台位于所述中心连线且远离所述PTM的一侧。

8.如权利要求1所述的作业平台，其特征在于，每个所述搬运机器人包括至少一个用于持有硅片的机械手，所述机械手在平行于所述传输平面的平面中是可旋转的。

9.如权利要求8所述的作业平台，其特征在于，所述搬运机器人可以在垂直于所述传输平面的方向上进行升降。

10.如权利要求8所述的作业平台，其特征在于，每个所述机械手在硅片平行于传输平面的平面中可线性伸缩。

11.如权利要求1-10中任意一项所述的作业平台，其特征在于，所述两个Loadlock中的一个Loadlock中的硅片被逐一传输至所述PTM中处理时，两个Loadlock中的另一个Loadlock处于抽真空或者破真空或者在大气环境下移除或装入硅片。

12.如权利要求1-10中任意一项所述的作业平台，其特征在于，所述中转台还用于硅片中心的定位和/或硅片方向的对准。

13.如权利要求1-10中任意一项所述的作业平台，其特征在于，安置于PTM内的所述扫描机器人包括静电吸盘。

14.如权利要求1-10中任意一项所述的作业平台，其特征在于，每个Loadlock中设置有用于承载至少一片硅片的晶片承载装置。