[实用新型]真空蒸镀设备有效
申请号: | 202020343396.0 | 申请日: | 2020-03-18 |
公开(公告)号: | CN211522307U | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 宋风宽;周昌峰 | 申请(专利权)人: | 郑州科探仪器设备有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 王学芝 |
地址: | 450000 河南省郑州市高新技术*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 设备 | ||
本实用新型涉及真空蒸镀设备,包括壳体,壳体上设置真空腔体底座和真空腔体罩,真空腔体底座和真空腔体罩围成真空腔体,真空腔体座上设有安装架,安装架上设有蒸镀台,真空腔体座上设有能够转动的遮挡板,真空腔体座上设置有转轴,遮挡板包括上下贴合设置的上挡板和下挡板,各挡板转动均转动安装于转轴上且各挡板与转轴之间依靠摩擦力能够随转轴同步转动,安装架上设置有与各挡板限位挡止配合的限位结构,上、下挡板具有转动后相互配合对蒸镀坩埚进行遮挡的遮挡位,上、下挡板还具有反向转动后避开下方蒸镀坩埚的让开位。与现有技术相比,上述结构的蒸镀设备可以减小真空腔体的体积,进而减小整个蒸镀设备的体积与重量,节省了生产成本。
技术领域
本实用新型涉及蒸镀技术领域,具体涉及真空蒸镀设备。
背景技术
真空蒸镀,简称蒸镀,是指在真空条件下,采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化,粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀是使用较早、用途较广泛的气相沉积技术,具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点。
现有的真空蒸镀设备一般具有真空腔体,腔体中设置有蒸镀台,蒸镀台下方设置有蒸镀坩埚和对蒸镀坩埚进行加热的加热装置,蒸镀坩埚中放置膜料。由于蒸镀开始时,膜料温度低,膜料气化效果差,蒸镀效果也较差,此时一般会在蒸镀件和蒸镀坩埚之间设置可以转动的遮挡件,当膜料温度代达到设定温度并稳定后再异开遮挡件进行至蒸镀。但是现有遮挡件都是整块板,由于遮挡件需要转动遮挡或让开蒸镀坩埚,导致真空腔体的体积需要足够大才能满足遮挡件的转动,导致整个真空蒸镀设备的体积也较大,不仅增加了生产成本,而且整个设备比较笨重。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种体积小、生产成本低的真空蒸镀设备。
为实现上述目的,本实用新型的真空蒸镀设备采用如下技术方案:一种真空蒸镀设备,包括壳体,壳体上设置真空腔体底座和真空腔体罩,真空腔体底座和真空腔体罩围成真空腔体,真空腔体座上设置有安装架,安装架上设置有供蒸镀件安装的蒸镀台,真空腔体座上还设置有蒸镀坩埚和对蒸镀坩埚加热的加热结构,真空腔体座上于蒸镀坩埚与蒸镀台之间设置有能够转动的遮挡板,所述真空腔体座上设置有转轴,遮挡板包括上下贴合设置的上挡板和下挡板,各挡板转动均转动安装于转轴上且各挡板与转轴之间依靠摩擦力能够随转轴同步转动,安装架上设置有与各挡板限位挡止配合的限位结构,上、下挡板具有转动后相互配合对蒸镀坩埚进行遮挡的遮挡位,上、下挡板还具有反向转动后避开下方蒸镀坩埚的让开位。
所述限位结构包括设置于安装架上的限位挡板,下挡板上设有其位于遮挡位时与限位挡板限位挡止配合的第一凸起,下挡板上还设置有其位于让开位时与限位挡板限位挡止配合的第二凸起,上挡板上设有其位于遮挡位时与限位挡板限位挡止配合的第三凸起,上挡板上还设置有其位于让开位时与限位挡板限位挡止配合的第四凸起。
所述蒸镀台转动安装于安装架上,转轴上设置有第一齿轮,蒸镀台上设置有与第一齿轮啮合传动的第二齿轮以带动蒸镀台转动。
所述安装架上设置有安装孔,安装架上沿安装孔的孔沿周向间隔设置有三个以上的限位轮,蒸镀台包括与限位轮的外周面滚动配合的转动配合柱,第二齿轮设置于转动配合柱上。
所述转轴上同轴线传动安装有传动件,传动件具有供各挡板转动安装的安装段和形成上述第一齿轮的齿轮段。
所述安装架包括竖向支架和横向支架,蒸镀台设置于横向支架上,横向支架通过上下调节结构安装于竖向支架上。
所述上下调节结构包括设置于竖向支架上的导向柱,横向支架上设置有与导向柱上下导向移动配合的导向孔,横向支架上设置有当其调节至设定高度时对其固定的固定螺钉。
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