[实用新型]研磨机

说明书

本实用新型提供了一种研磨机，包括：吸附盘、与吸附盘相连的第一转轴、真空泵、研磨盘以及与研磨盘相连的第二转轴，其中，真空泵与吸附盘上的吸附孔相连，用于将设置在吸附盘上的待磨件吸附在吸附盘的表面上，第一转轴的轴线与第二转轴的轴线间隔设置，可以对待磨件朝向研磨盘的端面进行全面、均匀的打磨抛光处理。本实用新型提供的研磨机适于对大幅面且厚度较小的待磨件进行打磨抛光处理，尤其适于制作大幅面岩心标本切片，可以较大程度上保存岩心上的完整性，并具有较好的打磨抛光效果，进而使得较大程度上保存岩心切片上的构造细节的完整性，便于对大幅面岩心标本切片进行360°全方位观察，非常适于观察展示和展览。

技术领域

本实用新型涉及机械设备领域，具体而言，涉及一种研磨机。

背景技术

目前，抛光机或是研磨机是一种应用很广泛的机械，通过电机带动研磨盘旋转，使研磨盘上的打磨件与待磨件的表面相摩擦，进行研磨、抛光等工艺。现有的抛光机可以通过设置真空设备，将待磨件设置在吸附盘的表面进行研磨、抛光等工艺，但是针对大幅面的待磨件，打磨件在旋转过程中研磨的位置相对固定，待磨件的部分部位的研磨或抛光效果并不理想。

实用新型内容

为了改善上述技术问题至少之一，本实用新型的一个目的在于提供一种研磨机，能够实现对大幅面的待磨件的研磨、抛光等工艺，并且具有较好的工艺效果。

为实现上述目的，本实用新型的技术方案提供了一种研磨机，包括：吸附盘，所述吸附盘上设有吸附孔，所述吸附孔用于将待磨件吸附在所述吸附盘上；第一转轴，所述第一转轴为空心轴，所述第一转轴的一端与所述吸附盘相连并与所述吸附孔相连通，所述第一转轴与所述吸附盘同轴设置；真空泵，所述真空泵包括连轴套，所述连轴套套设于所述第一转轴的另一端，以使所述第一转轴与所述连轴套转动连接，且所述真空泵通过所述第一转轴与所述吸附孔相连通；研磨盘，设置在所述吸附盘的上方，所述研磨盘上设有打磨件，所述打磨件用于对所述待磨件进行打磨抛光作业；第二转轴，与所述研磨盘相连；其中，所述第一转轴的轴线与所述第二转轴的轴线间隔设置。

具体而言，本实用新型所提供的研磨机采用了真空吸附的方式，使的待磨件可以吸附在吸附盘的表面，同时吸附盘的表面上设置有多个吸附孔，通过多个吸附将待磨件固定在吸附盘的表面上，可以对大幅面的待磨件具有更好的固定作用，且使得待磨件的受力更加均匀，以使待磨件与吸附盘表面的贴合更加紧密，对于厚度比较小的待磨件，可以相应减少在打磨抛光过程中待磨件损伤或是损坏的可能性。

第一转轴与吸附盘相连，第二转轴与研磨盘相连，吸附盘与研磨盘相对设置，通过第一转轴带动吸附盘旋转，第二转轴带动研磨盘旋转，使得研磨盘上的打磨件对吸附盘上的待磨件进行打磨抛光处理。

本申请所提供的研磨机将第一转轴的轴线与所述第二转轴的轴线间隔设置，即第一转轴与第二转轴不是同轴设置。可以理解的是，以吸附盘为例，旋转半径越大的部位旋转的线速度也越大，打磨抛光的效果也越好，这样在吸附盘旋转的过程中，设置在吸附盘上的待磨件，远离吸附盘的旋转轴线的线速度大，打磨抛光的效果好，靠近吸附盘的旋转轴线的线速度小，打磨抛光的效果差。同样道理，研磨盘的旋转半径越大的部位旋转的线速度也越大，打磨抛光的效果也越好。通过将第一转轴的轴线与所述第二转轴的轴线间隔设置，可以利用研磨盘的旋转半径越大的部位对待磨件上靠近吸附盘的旋转轴线的部分多进行打磨，以提高对待磨件整体打磨抛光效果。

综上，本申请所提供的研磨机适于对大幅面且厚度较小的待磨件进行打磨抛光处理，尤其适于制作大幅面标本切片，比如大幅面岩心标本切片。可以较大程度上保存岩心上的完整性，并具有较好的打磨抛光效果，进而使得较大程度上保存岩心切片上的构造细节的完整性，便于对大幅面岩心标本切片进行360°全方位观察，非常适于观察展示和展览。

另外，本实用新型提供的上述技术方案中的研磨机还可以具有如下附加技术特征：