[实用新型]一种旋转型不锈钢等离子表面处理装置有效

专利信息
申请号: 202020227551.2 申请日: 2020-02-28
公开(公告)号: CN211295034U 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 蒙煜 申请(专利权)人: 广州善准仪器设备有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 广州海石专利代理事务所(普通合伙) 44606 代理人: 邵穗娟
地址: 510000 广东省广州市海珠区江南*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 旋转 不锈钢 等离子 表面 处理 装置
【说明书】:

实用新型公开了一种旋转型不锈钢等离子表面处理装置,其特征是:包括密封箱,密封箱的箱口设置有密封门,密封箱内设置有转动件,转动件的转动端连接有安装盘,安装盘可拆卸连接有放置样品的旋转腔体;密封箱内设置产生等离子体的等离子处理器,等离子处理器的喷出端朝向旋转腔体的开口设置,表面处理向外设置有抽气泵,抽气泵的抽气口与密封箱内连通;等离子处理器产生的等离子体的射频频率为40MHz。通过采用上述设置,具有旋转腔体可安装和旋转,利用等离子处理器产生的等离子体可处理不规则颗粒样品的优点。

技术领域

本实用新型涉及等离子表面处理的技术领域,具体涉及一种旋转型不锈钢等离子表面处理装置。

背景技术

等离子处理器利用高压电源在一定的压力条件下对气体施加足够的能量,在温度不断上升过程中,气体中原子的电子从原子钟剥离出来,成为带正电荷的原子核和带负电荷的电子,这个过程称为原子的电离,电离过程的发生,形成了等离子体。等离子体状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。等离子处理样品是进行后续加工的一项重要基础工作,属于一种常规技术手段。

传统的等离子处理的腔体都是不旋转的,产生的等离子体通常是从上往下进行处理,便于处理表面有规则的样品,例如玻璃基片等,需要固定一个表面来进行处理。对于一些粉末、小颗粒等形状不规则样品,如石墨烯粉末、金属氧化物粉末等样品通常是成堆堆积的,无法固定一个表面,且等离子无法处理到位于堆积粉末下方的粉末颗粒,因此无法满足等离子处理的使用要求,即使是反复处理几次,也无法均匀完整地处理堆积的粉末样品,进而影响后续加工的效果。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足,本实用新型的目的在于提供一种处理不规则粉末颗粒样品的旋转型不锈钢等离子表面处理装置。

本实用新型的目的通过以下技术方案实现:

一种旋转型不锈钢等离子表面处理装置,包括密封箱,所述密封箱的箱口设置有密封门,所述密封箱内设置有转动件,所述转动件的转动端连接有安装盘,所述安装盘可拆卸连接有放置样品的旋转腔体;所述密封箱内设置产生等离子体的等离子处理器,所述等离子处理器的喷出端朝向所述旋转腔体的开口设置,所述表面处理向外设置有抽气泵,所述抽气泵的抽气口与所述密封箱内连通;所述等离子处理器产生的等离子体的射频频率为40MHz。

进一步的,所述转动件包括电机,所述密封箱内固定连接有支撑板,所述电机的转轴贯通所述支撑板设置,所述旋转腔体的开口朝上设置,所述支撑板转动连接有若干滚珠,所述滚珠与所述安装盘抵接。

进一步的,所述安装盘设置有若干插块,所述旋转腔体朝向所述安装盘的底面开设有若干供所述插块插接的插槽。

进一步的,所述安装盘的外周面凸起有凸块,所述凸块螺纹贯通有主螺纹孔,所述旋转腔体的外周面凸起有固定块,所述固定块螺纹贯通有副螺纹孔,当所述旋转腔体的插槽与所述安装盘的插块插接适配时,所述主螺纹孔与所述副螺纹孔正对,螺栓与主螺纹孔和副螺纹孔螺纹连接。

进一步的,所述安装盘朝向所述旋转腔体的顶面开设有与所述安装盘的外周面相连通的直槽,所述旋转腔体朝向所述安装盘的底面固定连接有滑条,所述滑条与所述直槽滑动连接;当所述滑条与所述直槽滑动适配时,所述滑条沿长度方向的两端均螺纹连接有旋转头,所述旋转头与所述安装盘的外周面抵紧。

进一步的,所述旋转头包括与所述滑条沿其长度方向的一端螺纹连接的螺杆,所述螺杆远离所述滑条的一端固定连接有压紧块,所述压紧块朝向所述滑条的侧面固定连接有橡胶块。

进一步的,所述密封箱设置有控制电机转速的调节旋钮。

进一步的,当所述表面处理装置工作时,所述旋转腔体满功率运行三分钟后,所述旋转腔体的温度小于六十摄氏度。

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