[实用新型]用于化学改性的配液装置

权利要求书

1.一种用于化学改性的配液装置，包括配液桶，其特征在于，所述配液桶包括底壁及侧壁，所述底壁全部或部分倾斜设置，所述配液桶包括由侧壁形成而成的第一收容空间及由底壁形成的第二收容空间，至少部分第二收容空间用于聚集配液桶内由化学改性反应产生的沉淀和/或杂质，所述第一收容空间与出液系统相连通，所述第二收容空间与排液系统相连通。

2.根据权利要求1所述的用于化学改性的配液装置，其特征在于，所述底壁上设有排液孔，排液系统包括与排液孔相连的排液管及设于排液管上的排液阀。

3.根据权利要求1所述的用于化学改性的配液装置，其特征在于，所述侧壁包括若干平面和/或若干柱面，所述第一收容空间呈规则的柱状。

4.根据权利要求2所述的用于化学改性的配液装置，其特征在于，所述底壁呈锥面设置，第二收容空间的截面积自下而上逐渐增大，排液孔位于底壁的最下方。

5.根据权利要求1所述的用于化学改性的配液装置，其特征在于，所述配液桶内设有用于加热的板式加热器。

6.根据权利要求1所述的用于化学改性的配液装置，其特征在于，所述侧壁上设有若干出液口，出液口上连接有出液系统。

7.根据权利要求6所述的用于化学改性的配液装置，其特征在于，所述侧壁自下而上依次设有第一出液口、第二出液口及第三出液口，第一出液口、第二出液口及第三出液口为等间距或非等间距分布。

8.根据权利要求7所述的用于化学改性的配液装置，其特征在于，所述出液系统包括与第一出液口相连的第一出液系统、与第二出液口相连的第二出液系统及与第三出液口相连的第三出液系统，所述第一出液系统包括第一出液管及设于第一出液管上的第一出液阀，第二出液系统包括第二出液管及设于第二出液管上的第二出液阀，第三出液系统包括第三出液管及设于第三出液管上的第三出液阀。

9.根据权利要求6所述的用于化学改性的配液装置，其特征在于，所述侧壁上在位于出液口的上方设有液位传感器，用于进行高液位保护。

10.根据权利要求1所述的用于化学改性的配液装置，其特征在于，所述配液装置还包括用于固定安装配液桶的支架，所述支架表面设有用于支撑全部或部分底壁的收容槽。