[发明专利]一种清洗装置

说明书

本发明公开了一种清洗装置，涉及晶体清洗技术领域。该清洗装置包括储液箱、清洗箱和清洗毛刷。储液箱用于储存清洗液，清洗箱放置于储液箱内，清洗箱开设有进液孔，进液孔用于供清洗液流入清洗箱，清洗毛刷可活动地安装于清洗箱上，清洗毛刷用于对放入清洗箱内的晶体进行刷洗。与现有技术相比，本发明提供的清洗装置由于采用了开设有进液孔的清洗箱以及可活动地安装于清洗箱上的清洗毛刷，所以能够方便快捷地对晶体进行清洗，清洗效率高，清洗效果好，并且能够提高工作人员的舒适度，避免晶体掉落发生磕碰的风险。

技术领域

本发明涉及晶体清洗技术领域，具体而言，涉及一种清洗装置。

背景技术

目前，碳化硅是重要的第三代半导体材料，它具有宽禁带、高热导率、高击穿场强、高载流子饱、高抗辐射能力及良好的化学稳定性等的优越特性，因其本身具有的特性，其在新能源汽车、汽车灯照、通用照明、电动车、5G通讯应用等领域有着广泛的应用市场。

现在的碳化硅晶体在晶棒端面研磨前需要用蜡粘接晶体与治具，加工结束后需要在温度为90度的去蜡液中从平边治具上卸下晶体，然后对晶体上的残余蜡进行擦拭清洗，接着将晶体放入清水内再次进行擦拭清洗，最后将晶体取出并擦干。在此过程中，工作人员需要全程佩戴隔热手套，然而隔热手套的厚度较厚，不利于进行操作，佩戴隔热手套会影响清洗效率以及工作人员的舒适度，并且还存在晶体从手中掉落发生磕碰的风险。

有鉴于此，设计制造出一种清洗效率高的清洗装置特别是在碳化硅晶体生产中显得尤为重要。

发明内容

本发明的目的在于提供一种清洗装置，能够方便快捷地对晶体进行清洗，清洗效率高，清洗效果好，并且能够提高工作人员的舒适度，避免晶体掉落发生磕碰的风险。

本发明是采用以下的技术方案来实现的。

一种清洗装置，包括储液箱、清洗箱和清洗毛刷，储液箱用于储存清洗液，清洗箱放置于储液箱内，清洗箱开设有进液孔，进液孔用于供清洗液流入清洗箱，清洗毛刷可活动地安装于清洗箱上，清洗毛刷用于对放入清洗箱内的晶体进行刷洗。

进一步地，清洗箱包括顶壁、周壁和底壁，顶壁通过周壁与底壁固定连接，顶壁开设有开口，开口用于供晶体放入，清洗毛刷与顶壁活动连接，进液孔开设于周壁和/或底壁上。

进一步地，顶壁开设有滑槽，清洗毛刷与滑槽滑动配合，清洗毛刷能够沿滑槽的延伸方向滑动，以对晶体进行刷洗。

进一步地，清洗毛刷包括手柄、连接杆和毛刷本体，手柄通过连接杆与毛刷本体固定连接，连接杆与滑槽滑动配合，手柄和毛刷本体相对设置于顶壁的两侧。

进一步地，连接杆包括滑动段和连接段，滑动段与连接段相互垂直，且固定连接，滑动段与滑槽滑动配合，连接段与毛刷本体固定连接。

进一步地，手柄、连接杆和滑槽的数量为两个，两个滑槽相对设置于顶壁的两侧，每个手柄与一个连接杆固定连接，每个连接杆与一个滑槽滑动配合。

进一步地，进液孔的数量为多个，其中，一部分进液孔呈矩形阵列地分布于周壁上，另一部分进液孔呈矩形阵列地分布于底壁上。

进一步地，清洗装置还包括治具，治具包括台阶部和粘接部，台阶部与粘接部固定连接，台阶部的横截面积大于粘接部的横截面积，粘接部用于带动粘接于粘接部上的晶体伸入开口，台阶部用于与顶壁抵持。

进一步地，顶壁开设有限位槽，台阶部伸入限位槽，且与限位槽的底壁抵持，限位槽用于对台阶部进行限位。

进一步地，清洗装置还包括软垫，软垫固定安装于清洗箱内，软垫用于承载晶体。

本发明提供的清洗装置具有以下有益效果：