[发明专利]一种进气道类腔体目标散射测量方法

说明书

本发明公开了一种进气道类腔体目标散射测量方法，包括以下步骤：S1.将腔体口面尺寸作为计算远场条件过程中的被测目标最大尺寸，选择满足远场条件的测试场；S2.配置测量设备；S3.通过配置后的测量设备分别依次进行背景测量、定标体测量、目标测量和定标处理，获得腔体散射目标的RCS测量结果。本发明有效减小了对测试场地面积的需求，测试成本减少，解决了现有技术中存在的测试场地面积需求大的问题，并进一步提高了目标散射测量的准确度。

技术领域

本发明涉及目标散射测量技术领域，更具体的说是涉及一种进气道类腔体目标散射测量方法。

背景技术

雷达散射截面(RCS)是武器系统隐身性能的重要指标，是定量表征目标散射强弱的物理量，通过研究目标的散射特性，运用材料及外型技术，对目标的RCS值进行测量，在隐身技术领域有重大意义。

雷达散射截面RCS是在雷达和目标之间的距离R无限远的条件下进行定义的，即目标在理想平面波的照射下进行定义的，但在实际测量过程中，却无法实现这样的理想条件。

远场近似条件(简称远场条件)表示，在实际测试中，平面波是通过将一个已知特性的发射天线设置在远处向待测天线照射，当发射天线的波前阵面扩展到一定程度，则可认为待测天线接收的是平面波的照射。引入远场条件的基本出发点是要求在被测腔体目标口径平面上的相位变化小于π/8。在R趋于无穷大时，电磁散射测量系统的输出可严格地表示雷达散射截面。在计算远场条件时，一般取目标三维尺寸中最大的一维。按此规则，对进气道来说，其长度往往比口面尺寸大，在计算远场条件时要用长度。由此计算得到的测量距离一般较大，需要在大型测试场中进行测量，产生的测量成本较高。

因此，如何提供一种对测试场地大小的需求较低的进气道类腔体目标散射测量方法是本领域技术人员亟需解决的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种进气道类腔体目标散射测量方法，其目的在于，解决现有技术中采用长度来计算远场条件，进而得到的测试距离较大，对测试场地的要求较高的问题。

为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种进气道类腔体目标散射测量方法，包括以下步骤：

S1.将腔体口面尺寸作为计算远场条件过程中的被测目标最大尺寸，选择满足远场条件的测试场；

S2.配置测量设备，根据理论计算得到一次以上的散射位置信息，合理配置测量设备的扫频频率间隔△f和脉冲调制参数；

S3.通过配置后的测量设备分别依次进行背景测量、定标体测量、目标测量和定标处理，获得所述腔体散射目标的RCS测量结果。

优选的，S2中配置测量设备，使测量设备能够测量2～5倍于腔体目标尺寸的能力。

优选的，所述远场条件的计算方法为：

式中，D为腔体目标口面最大尺寸，而非腔体目标三维最大尺寸，R为雷达与被测目标之间的距离，λ为波长。

优选的，所述背景测量的具体方法包括：

测量包含目标转台在内的微波暗室背景，获得目标转台及其它杂散回波构成的环境背景回波B(f)。

优选的，所述定标体测量的具体方法包括：

在目标转台上放置定标体，保持测量设备的配置不变，雷达接收到的定标体的回波信号S_C(f)：

S_C(f)＝C(f)+B(f)

式中，C(f)为定标体真实回波，B(f)为环境背景回波。

优选的，所述目标测量的具体方法包括：