[发明专利]一种进气道类腔体目标散射测量方法

权利要求书

1.一种进气道类腔体目标散射测量方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1.将腔体口面尺寸作为计算远场条件过程中的被测目标最大尺寸，选择满足远场条件的测试场；

S2.配置测量设备，根据理论计算得到一次以上的散射位置信息，合理配置测量设备的扫频频率间隔△f和脉冲调制参数；

S3.通过配置后的测量设备分别依次进行背景测量、定标体测量、目标测量和定标处理，获得所述腔体散射目标的RCS测量结果。

2.根据权利要求1所述的一种进气道类腔体目标散射测量方法，其特征在于，S2中配置测量设备，使测量设备能够测量2～5倍于腔体目标尺寸的能力。

3.根据权利要求1所述的一种进气道类腔体目标散射测量方法，其特征在于，所述远场条件的计算方法为：

式中，D为腔体目标口面最大尺寸，而非腔体目标三维最大尺寸，R为雷达与被测目标之间的距离，λ为波长。

4.根据权利要求1所述的一种进气道类腔体目标散射测量方法，其特征在于，所述背景测量的具体方法包括：

测量包含目标转台在内的微波暗室背景，获得目标转台及其它杂散回波构成的环境背景回波B(f)。

5.根据权利要求3所述的一种进气道类腔体目标散射测量方法，其特征在于，所述定标体测量的具体方法包括：

在目标转台上放置定标体，保持测量设备的配置不变，雷达接收到的定标体的回波信号S_C(f)：

S_c(f)＝C(f)+B(f)

式中，C(f)为定标体真实回波，B(f)为环境背景回波。

6.根据权利要求5所述的一种进气道类腔体目标散射测量方法，其特征在于，所述目标测量的具体方法包括：

将腔体散射目标置于目标转台上，调整重心，使得腔体口面在旋转测量过程中始终能处于暗室静区范围内，测量获得目标信号S_T(f)：

S_T(f)＝T(f)+B(f)

式中，其中T(f)为所述腔体散射目标本身的回波。

7.根据权利要求6所述的一种进气道类腔体目标散射测量方法，其特征在于，所述定标处理的具体方法包括：

采用背景矢量相减技术，对所述目标信号S_T(f)和所述定标体的回波信号S_C(f)分别应用所述环境背景回波B(f)，获得所述腔体散射目标的RCS测量结果，目标散射函数的定标方程为：

式中，σ_T(f)为目标散射函数，是需要测量和定标的量；σ_C(f)为定标体的散射函数。