[发明专利]一种具有酸敏感的抗菌涂层及其制备方法和用途

权利要求书

1.一种具有酸敏感的阴离子聚合物，其特征在于：该阴离子聚合物由阴离子单体、阳离子单体为原料聚合而成；

所述阴离子单体为丙烯酸或甲基丙烯酸；

所述阳离子单体为带有氨基、叔胺或季铵盐的丙烯酸酯类单体。

2.根据权利要求1所述的阴离子聚合物，其特征在于：所述阴离子单体和阳离子单体的摩尔比为0.5-0.9：0.1-0.5。

3.根据权利要求2所述的阴离子聚合物，其特征在于：所述阴离子单体和阳离子单体的摩尔比为0.6-0.8：0.2-0.4。

4.根据权利要求3所述的阴离子聚合物，其特征在于：所述阴离子单体和阳离子单体的摩尔比为0.6-0.7：0.29-0.38。

5.根据权利要求1~4任一项所述的阴离子聚合物，其特征在于：所述阳离子单体选自甲基丙烯酸二甲氨乙酯、甲基丙烯酸二乙基氨基乙酯或甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵中的一种。

6.根据权利要求5所述的阴离子聚合物，其特征在于：所述阳离子单体选自甲基丙烯酸二甲氨乙酯或甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵。

7.一种制备权利要求1~6任一项所述的阴离子聚合物的方法，其特征在于：它包括如下步骤：以阴离子单体和阳离子单体为原料，在引发剂作用下，通过自由基聚合的方法制备得到阴离子聚合物。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于：它包括如下步骤：将阴离子单体，阳离子单体和引发剂混合，加入反应溶剂，抽真空通氮气除去体系氧气，聚合反应，即得。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于：所述引发剂选自偶氮二异丁腈或偶氮二异丁酸甲酯中的一种；

和/或，所述反应溶剂为二甲基亚砜、二甲基乙酰胺、四氢呋喃、异丙醇、甲醇、二甲基甲酰胺中的一种或多种的混合物；

和/或，所述阳离子单体和引发剂的摩尔比为0.1-0.5：0.005-0.03；

和/或，所述聚合反应的温度为50~100℃；和/或，所述聚合反应的时间为8~24小时；

和/或，所述聚合反应后还包括提纯，所述提纯包括如下步骤：将反应液冷却至室温后加入有机溶剂沉淀出聚合物，干燥，即可。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于：所述反应溶剂为二甲基亚砜或二甲基乙酰胺；

和/或，所述阳离子单体和引发剂的摩尔比为0.2-0.4：0.005-0.02；

和/或，每100mL所述反应溶剂中，阴离子单体，阳离子单体和引发剂的总质量为5~50g；

和/或，所述聚合反应的温度为60~100℃；和/或，所述聚合反应的时间为10~15小时；

和/或，所述有机溶剂为丙酮或丙酮和乙醚混合液；所述丙酮和乙醚混合液中，丙酮和乙醚的体积比为（0.3~0.7）：（0.3~0.7）。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于：所述阳离子单体和引发剂的摩尔比为0.29-0.38：0.01-0.02；

和/或，每100mL所述反应溶剂中，阴离子单体，阳离子单体和引发剂的总质量为20g；

和/或，所述聚合反应的温度为60℃；和/或，所述聚合反应的时间为12小时；

和/或，所述丙酮和乙醚混合液中，丙酮和乙醚的体积比为1：1。

12.权利要求1~6任一项所述的阴离子聚合物在制备抗菌涂层中的用途。

13.根据权利要求12所述的用途，其特征在于：所述抗菌涂层为酸敏感的抗菌涂层。

14.一种具有酸敏感的抗菌涂层，其特征在于：该抗菌涂层的最外面一层为权利要求1~6任一项所述的阴离子聚合物。