[发明专利]曝光方法、曝光机及计算机可读存储介质

说明书

本发明公开一种曝光方法、曝光机及计算机可读存储介质，其中曝光方法用于对平台上放置的若干待曝光工件进行曝光，通过所述平台的定位使若干待曝光工件依次对准激光器，所述曝光方法包括：至少于所述平台的多次定位过程中的部分时段控制所述激光器处于关闭状态。本发明对曝光机的激光器进行分时控制，使激光器至少在平台处于定位过程中的部分时段处于关闭状态，有效减少了激光器的工作时间，进而减少了激光器的发热，使得设备可以保持在相对稳定的温度，有利于保障平台的定位精度，同时也能起到节约电能和提高激光器的使用寿命的作用。

技术领域

本发明涉及曝光技术领域，具体涉及一种曝光方法、曝光机及计算机可读存储介质

背景技术

现有曝光机上高功率激光器控制时序是在设备上电后一直稳定恒流工作。由于激光器的工作电流超级大，导致产生大量的热，会导致设备局部温度升高，从而影响平台定位精度，而且也会造成较大的电能消耗。另外，激光器随工作时间增长而衰减，也会降低激光器的使用寿命。

发明内容

本发明的目的在于提供一种曝光方法、曝光机及计算机可读存储介质，能够减少激光器的发热，使设备保持在相对稳定的温度，有利于保障平台的定位精度，同时也能起到节约电能和提高激光器的使用寿命的作用。

为实现上述目的，本发明提供了一种曝光方法，用于对平台上放置的若干待曝光工件进行曝光，通过所述平台的定位使若干待曝光工件依次对准激光器，所述曝光方法包括：

至少于所述平台的多次定位过程中的部分时段控制所述激光器处于关闭状态。

可选地，在所述平台开启定位过程之后，控制所述激光器由打开状态切换为关闭状态。

可选地，在所述平台结束定位过程之前，控制所述激光器由关闭状态切换为打开状态。

为实现上述目的，本发明还提供了一种曝光方法，用于对平台上放置的若干待曝光工件进行曝光，通过所述平台的定位使若干待曝光工件依次对准激光器，所述曝光方法包括：

于当前曝光工件完成曝光后，控制所述激光器由打开状态切换为关闭状态以及控制所述平台对下一待曝光工件进行定位；

于下一待曝光工件完成定位时、完成定位前或完成定位后，控制所述激光器由关闭状态切换为打开状态以对该待曝光工件进行曝光；

重复上述步骤。

可选地，于当前曝光工件完成曝光后，先控制所述平台开启定位过程，再控制所述激光器由打开状态切换为关闭状态。

为实现上述目的，本发明还提供了一种曝光机，其特征在于，包括：

处理器；

存储器，其中存储有所述处理器的可执行指令；

其中，所述处理器配置为经由执行所述可执行指令来执行如上所述的曝光方法。

为实现上述目的，本发明还提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有程序，所述程序被处理器执行时实现如上所述的曝光方法。

与现有技术相比，本发明对曝光机的激光器进行分时控制，使激光器至少在平台处于定位过程中的部分时段处于关闭状态，有效减少了激光器的工作时间，进而减少了激光器的发热，使得设备可以保持在相对稳定的温度，有利于保障平台的定位精度，同时也能起到节约电能和提高激光器的使用寿命的作用。

附图说明

图1是本发明实施例曝光方法的示意性控制时序图。

图2是本发明实施例曝光方法的示意性流程图。

图3是本发明实施例曝光机的示意框图。

具体实施方式