[发明专利]曝光方法、曝光机及计算机可读存储介质在审
申请号: | 202011499334.X | 申请日: | 2020-12-16 |
公开(公告)号: | CN112462578A | 公开(公告)日: | 2021-03-09 |
发明(设计)人: | 郭党委;胡雅文;吴明仓 | 申请(专利权)人: | 广东思沃激光科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 张艳美;刘光明 |
地址: | 523000 广东省东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 方法 计算机 可读 存储 介质 | ||
1.一种曝光方法,用于对平台上放置的若干待曝光工件进行曝光,通过所述平台的定位使若干待曝光工件依次对准激光器,其特征在于,所述曝光方法包括:
至少于所述平台的多次定位过程中的部分时段控制所述激光器处于关闭状态。
2.如权利要求1所述的曝光方法,其特征在于,
在所述平台开启定位过程之后,控制所述激光器由打开状态切换为关闭状态。
3.如权利要求1或2所述的曝光方法,其特征在于,
在所述平台结束定位过程之前,控制所述激光器由关闭状态切换为打开状态。
4.一种曝光方法,用于对平台上放置的若干待曝光工件进行曝光,通过所述平台的定位使若干待曝光工件依次对准激光器,其特征在于,所述曝光方法包括:
于当前曝光工件完成曝光后,控制所述激光器由打开状态切换为关闭状态以及控制所述平台对下一待曝光工件进行定位;
于下一待曝光工件完成定位时、完成定位前或完成定位后,控制所述激光器由关闭状态切换为打开状态以对该待曝光工件进行曝光;
重复上述步骤。
5.如权利要求4所述的曝光方法,其特征在于,
于当前曝光工件完成曝光后,先控制所述平台开启定位过程,再控制所述激光器由打开状态切换为关闭状态。
6.一种曝光机,其特征在于,包括:
处理器;
存储器,其中存储有所述处理器的可执行指令;
其中,所述处理器配置为经由执行所述可执行指令来执行权利要求1-5任一项所述的曝光方法。
7.一种计算机可读存储介质,其上存储有程序,其特征在于,所述程序被处理器执行时实现如权利要求1-5任一项所述的曝光方法。
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