[发明专利]一种氮化镓单晶基片的氮极性表面的表面处理方法有效

专利信息
申请号: 202011493956.1 申请日: 2020-12-17
公开(公告)号: CN112626622B 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 徐耿钊;李忠念;陈晖;刘争晖;张春玉;陈科蓓;宋文涛;徐科 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: C30B33/10 分类号: C30B33/10;C25F3/12;C30B29/40
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰
地址: 215123 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 氮化 镓单晶基片 极性 表面 处理 方法
【权利要求书】:

1.一种氮化镓单晶基片的氮极性表面的表面处理方法,其特征在于,所述表面处理方法包括:

对氮化镓单晶基片的氮极性表面依序进行电化学腐蚀和化学腐蚀;

其中,对所述氮极性表面进行电化学腐蚀的方法包括:

在所述氮化镓单晶基片的所述氮极性表面上连接用于电化学腐蚀的工作电路的阳极;

将所述氮化镓单晶基片浸泡在中性电解液中;

将所述工作电路的阴极浸泡在所述中性电解液后,通过所述工作电路向所述氮极性表面施加周期性变化的工作电压,以进行所述电化学腐蚀;

其中,对所述氮极性表面进行化学腐蚀的方法包括:

将所述氮化镓单晶基片浸泡在H3PO4溶液后进行超声处理,以完成预腐蚀;

将预腐蚀后的所述氮化镓单晶基片浸泡在NaOH或KOH溶液后进行超声处理,以完成所述化学腐蚀。

2.根据权利要求1所述的表面处理方法,其特征在于,所述中性电解液为强酸强碱盐的水溶液。

3.根据权利要求2所述的表面处理方法,其特征在于,所述中性电解液为NaCl溶液、Na2SO4溶液、NaNO3溶液、KCl溶液、K2SO4溶液、NaNO3溶液中的一种。

4.根据权利要求3所述的表面处理方法,其特征在于,所述中性电解液的溶质的浓度为5mol/L~7mol/L。

5.根据权利要求1所述的表面处理方法,其特征在于,向所述氮极性表面施加周期性变化的工作电压之前,所述电化学腐蚀的方法还包括:在所述工作电路上连接恒电位仪。

6.根据权利要求1所述的表面处理方法,其特征在于,所述工作电压的电压值在-0.5V至-2V之间进行周期性变化。

7.根据权利要求1所述的表面处理方法,其特征在于,在所述氮化镓单晶基片的所述氮极性表面上连接所述工作电路的阳极的方法包括:

在所述氮极性表面上依序层叠形成Ti层、Al层、Ni层、Au层,以形成欧姆接触电极;

将所述欧姆接触电极连接在所述工作电路的阳极。

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