[发明专利]一种耐高温低辐射镀膜玻璃及其制造方法

权利要求书

1.一种耐高温低辐射镀膜玻璃，其特征在于：包括玻璃基板(1)以及自下而上依次设置在玻璃基板(1)表面的第一介质层(2)、至少一个功能层(3)、第二介质层(4)和介质保护层(5)，所述功能层(3)包括自下而上依次设置的第一耐高温阻燃膜层(6)、第一防护膜层(7)、低辐射功能膜层(8)、第二防护膜层(9)、第二耐高温阻燃膜层(10)，所述第一介质层(2)与相邻功能层(3)的第一耐高温阻燃膜层(6)连接，所述第二介质层(4)与相邻功能层(3)的第二耐高温阻燃膜层(10)连接，且相邻的所述功能层(3)之间通过中间介质层(11)连接。

2.根据权利要求1所述耐高温低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层(2)/第二介质层(4)/中间介质层(11)为TiO_X层。

3.根据权利要求1所述耐高温低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述介质保护层(5)为氮化硅锆层。

4.根据权利要求3所述耐高温低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述介质保护层(5)中还含有Cr³⁺和Cr⁶⁺。

5.根据权利要求1所述耐高温低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一耐高温阻燃膜层(6)和第二耐高温阻燃膜层(10)为掺杂了ZrB2的锌铝氧化物层。

6.根据权利要求1所述耐高温低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一防护膜层(7)和第二防护膜层(9)为NiCrO_x层。

7.根据权利要求1所述耐高温低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述低辐射功能膜层(8)为包括NiCr、Ag、AgCu或ZnO中一种或多种材料的膜层。

8.根据权利要求1所述耐高温低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基板(1)的厚度为5-12mm；所述第一介质层(2)的厚度为8-25nm；所述第二介质层(4)的厚度为25-50nm；所述介质保护层(5)的厚度为15-35nm；所述第一耐高温阻燃膜层(6)的厚度为8-18nm；所述第一防护膜层(7)的厚度为1-6nm；所述低辐射功能膜层(8)的厚度为6-12nm；所述第二防护膜层(9)的厚度为2-12nm；所述第二耐高温阻燃膜层(10)的厚度为30-60nm。

9.一种耐高温低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于：包括以下步骤：

步骤S1：选材及裁切：选择厚度为5-12mm的玻璃基板(1)，按照预定尺寸裁切成一定大小的玻璃片；

步骤S2：清洗：用有机溶剂对玻璃基板(1)的表面进行润湿、渗透及超声清洗，然后除去有机溶剂；

步骤S3：漂洗：添加纯水，对玻璃基板(1)的表面进行超声冲洗，使步骤S2清洗后残留在玻璃基板表面的有机溶剂溶解、稀释和去除；

步骤S4：脱水：将步骤S3漂洗过的玻璃基板(1)烘干，得到洁净的玻璃基板(1)以备用；

步骤S5：镀膜：按照溅射层的排列顺序，采用磁控溅射沉积方式，依次在步骤S4得到的干燥后的玻璃基板(1)表面自下而上沉积各镀膜层，即得到耐高温低辐射镀膜玻璃。

10.根据权利要求9所述耐高温低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于：步骤S5所述的镀膜过程具体包括以下步骤：

步骤S51：将玻璃基板(1)送入镀膜室进行镀膜，设置第一磁控溅射镀膜设备的功率为20-60KW，在玻璃基板(1)上溅射第一层厚度为10nm的第一介质层(2)，即形成TiO₂层；

步骤S52：设置第二磁控溅射镀膜设备的功率为20-45KW，在玻璃基板(1)上溅射第二层厚度为15nm的第一耐高温阻燃膜层(6)，即形成ZrB2掺杂的锌铝氧化物层；

步骤S53：设置第三磁控溅射镀膜设备的功率为4-5KW，在玻璃基板(1)上溅射第三层厚度为1nm的第一防护膜层(7)，即形成NiCrO_x层；

步骤S54：设置第四磁控溅射镀膜设备的功率为5-8KW，在玻璃基板(1)上溅射第四层厚度为10nm的低辐射功能膜层(8)，即形成金属银层；

步骤S55：设置第五磁控溅射镀膜设备的功率为5-6KW，在玻璃基板(1)上溅射第五层厚度为3nm的第二防护膜层(9)，即形成NiCrO_x层；

步骤S56：设置第六磁控溅射镀膜设备的功率为20-45KW，在玻璃基板(1)上溅射第六层厚度为40nm的第二耐高温阻燃膜层(10)，即形成ZrB2掺杂的锌铝氧化物层；

步骤S57：设置第七磁控溅射镀膜设备的功率为20-60KW，在玻璃基板(1)上溅射第七层厚度为25nm的第二介质层(4)，即形成TiO₂层；

步骤S58：设置第八磁控溅射镀膜设备的功率为5-12KW，在玻璃基板(1)上溅射第八层厚度为20nm的介质保护层(5)，即形成氮化硅锆层，最终得到耐高温低辐射镀膜玻璃。