[发明专利]抗菌量子点纳米药物的制备方法在审
申请号: | 202011484374.7 | 申请日: | 2020-12-16 |
公开(公告)号: | CN112494512A | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 李慧媛;谭杨;张晗 | 申请(专利权)人: | 山东大学 |
主分类号: | A61K33/24 | 分类号: | A61K33/24;A61P31/04 |
代理公司: | 南京中高专利代理有限公司 32333 | 代理人: | 徐福敏 |
地址: | 250100 *** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 抗菌 量子 纳米 药物 制备 方法 | ||
本发明公开了一种抗菌量子点纳米药物的制备方法,通过利用辐照技术对过渡金属双盐化物MeX2进行改性增强得到抗菌量子点材料MeX2‑y,由于抗菌量子点材料MeX2‑y上的原子空位可以产生更多的表面电子态,该表面电子态促使抗菌表面的电荷传输量增大,被增强的抗菌量子点材料MeX2‑y作为p型半导体材料,使得微生物细胞膜与MeX2‑y接触导致pn结限制单向电荷传输,最终使得抗菌量子点材料MeX2‑y产生一个强烈的非ROS依赖的氧化应激,达到杀菌的作用,且该非ROS依赖的氧化应激不会使细菌产生抗药性,具有广阔的应用前景。
技术领域:
本发明涉及纳米药物技术领域,具体涉及一种抗菌量子点纳米药物的制备方法。
背景技术:
细菌引起的感染性疾病严重威胁着人类的健康。尽管抗生素的发现让我们进入了长达四分之三世纪的感染控制时期,但是抗生素的使用也带来了耐药菌的产生,因此,亟待需要研制新的抗菌药物或策略来对抗耐药菌。
随着纳米技术的发展,纳米抗菌材料逐渐进入人们的视野,纳米抗菌材料的抗菌效果好,且不会产生抗药性,但纳米抗菌材料制备工艺复杂,不利于纳米药物的推广和实际使用,在这些材料中,过渡金属双盐化物纳米薄片因其大的表面积、优异的光学特性和易于功能化的表面而被认为是最有希望对抗细菌感染的候选材料。但过渡金属双盐化物MeX2纳米薄片有如下缺点:1)作用慢:光热和光催化处理需要1小时以上才能实现99.9%的灭菌。2)光依赖:由于过渡金属双盐化物MeS2无毒性,其抗菌活性是由其光热和光催化特性诱导产生的,因而强烈的光照是不可避免的。然而,在临床应用中,强烈的光照往往是需要避免或者无法实施的。比如在眼科领域,眼睛作为重要的感光结构,在治疗过程中应避免长时间强光照射,以确保视网膜不受损害;而对于机体深部组织的感染,光线又不能穿透,很难达到有效的杀菌效果。因此,有必要对过渡金属双盐化物MeS2的抗菌功能进行修改,使其具有更广泛的医学应用价值。
发明内容:
本发明要解决的技术问题是,针对现有技术的不足,提供一种抗菌量子点纳米药物的制备方法。本发明制备的抗菌纳米材料制备工艺简单,抗菌效果好,且不依赖光热催化场合的杀菌材料,与抗菌药物的实际应用场景贴合,具有广阔的应用前景。
为解决上述技术问题,本发明采用以下技术方案:
一种抗菌量子点纳米药物的制备方法,包括如下步骤:
步骤一、将过渡金属双盐化物MeX2加入无水乙醇中混合,超声震荡得到量子点悬浮液,将所述量子点悬浮液涂覆于载体上,干燥后得到待增强量子点材料;
步骤二、采用辐照方法对步骤一中所述待增强量子点材料进行改性,得到具有原子空位的抗菌量子点材料MeX2-y;
步骤三、将步骤二中所述抗菌量子点材料MeX2-y加入药用溶剂中得到抗菌量子点药物混悬溶液;
步骤四、将步骤三中所述抗菌量子点药物混悬溶液进行超声震荡形成抗菌量子点纳米药物;
其中,所述抗菌量子点材料MeX2-y中过渡金属Me与X的原子比大于1:2。
优选的是,步骤一中所述过渡金属双盐化物MeX2与所述无水乙醇的混合比例为(50~150)μL:50mg。
优选的是,步骤一中所述过渡金属双盐化物MeX2为MoS2或MoSe2。
优选的是,步骤一中所述待增强量子点材料的涂覆厚度小于500nm。
优选的是,步骤二中数值y∈(0,2)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东大学,未经山东大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011484374.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。