[发明专利]一种锥面标刻方法、装置及计算机可读存储介质有效

专利信息
申请号: 202011431577.X 申请日: 2020-12-09
公开(公告)号: CN112605532B 公开(公告)日: 2022-06-07
发明(设计)人: 唐国富;王威;罗恺韵;罗铁庚 申请(专利权)人: 长沙八思量信息技术有限公司
主分类号: B23K26/362 分类号: B23K26/362;B23K26/70;B23K26/08
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 梁馨怡
地址: 410000 湖南省长沙市长沙*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 锥面 方法 装置 计算机 可读 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种锥面标刻方法,其特征在于,所述锥面标刻方法包括以下步骤:

获取待标刻图形的中点锥面坐标值;

根据所述中点锥面坐标值及预设算法,计算所述待标刻图形的各轮廓点锥面坐标值;

根据各轮廓点锥面坐标值计算各轮廓点对应的高度校正值;

将各轮廓点锥面坐标值和所述高度校正值转换为对应的控制信号,并通过所述控制信号驱动振镜移动至对应的锥面坐标点;

所述根据各轮廓点锥面坐标值计算各轮廓点对应的高度校正值,具体包括:

根据各轮廓点锥面坐标值计算对应的高度校正参数;

通过所述高度校正参数对各轮廓点对应的振镜高度进行校正,得到所述高度校正值;

其中,通过如下算法计算所述高度校正参数:

fsx=WX0/[WXm-(WXm-WX(m+1))]*(Zi*n/Z0-m);

fsy=Wy0/[Wym-(Wym-Wy(m+1))]*(Zi*n/Z0-m);

其中:

(WX0、Wy0)为所述待标刻图形在中点所在平面的位宽;

(Wxm、Wym)为所述待标刻图形在m点所在平面的位宽;

(Wx(m+1)、Wy(m+1))为所述待标刻图形在m+1点所在平面的位宽,其中,待标刻图形落在锥面上的有效Z轴取值范围为±Z0,Zi为当Zi0时,即Z点的位置小于中心焦距时,将Z0的长度分为n等分,Zi落在(m,m+1)的位置上(0mn-1),(m,m+1)的实际宽度值为(Wxm,Wym),(Wx(m+1),Wy(m+1))。

2.根据权利要求1所述的锥面标刻方法,其特征在于,所述获取待标刻图形的中点锥面坐标值,之前包括:

获取用户输入的待标刻图形;

根据所述待标刻图形计算其中点初始坐标值及各轮廓点初始坐标值;

其中,所述中点初始坐标值及各轮廓点初始坐标值均为所述待标刻图形展开后的坐标值。

3.根据权利要求2所述的锥面标刻方法,其特征在于,所述获取待标刻图形的中点锥面坐标值,具体包括:

获取所述中点初始坐标值;

根据所述中点初始坐标值,计算所述待标刻图形的中点锥面坐标值;

其中,所述中点锥面坐标值为所述待标刻图形的中点在所述锥面待标刻区域中的锥面坐标值。

4.根据权利要求3所述的锥面标刻方法,其特征在于,通过如下公式计算所述待标刻图形的中点锥面坐标值:

dY=0;

其中:

(dX、dY、dZ、dA)为所述待标刻图形的中点锥面坐标值;

R为锥面坐标原点所在截面的半径;

H为锥面坐标原点所在截面与圆锥顶点的距离;

(X0、Y0)为所述中点初始坐标值。

5.根据权利要求4所述的锥面标刻方法,其特征在于,所述根据所述中点锥面坐标值及预设算法,计算所述待标刻图形的各轮廓点锥面坐标值,具体包括:

获取各轮廓点初始坐标值;

对各轮廓点初始坐标值进行锥面包裹计算处理,得到各轮廓点锥面坐标值。

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