[发明专利]PVD设备的双面镀膜控制方法、装置及系统

说明书

本申请公开了一种PVD设备的双面镀膜控制方法、装置及系统，涉及镀膜技术领域，可以解决在控制执行PVD设备的双面镀膜时，采用人工判断、翻面及启停弧源等方式，导致人工成本较高，且镀膜效率较低、误差率较大的问题。其中方法包括：利用前升降料台系统接收用于盛装目标物料的目标料盘，并采集所述目标料盘的工作信息；基于所述工作信息控制翻转台系统以及镀膜主机执行所述目标物料下的双面镀膜操作。本申请适用于对PVD设备的双面镀膜控制。

技术领域

本申请涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种PVD设备的双面镀膜控制方法、装置及系统。

背景技术

PVD(物理气相沉积)技术，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术，是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的表面处理方法。

随着PVD技术的应用越来越广泛，面向各分支行业的PVD设备也越来越专业化。其中，专门用于钕铁硼(NdFeB)永磁行业，重稀土(如Tb)晶界扩散工艺时，获得高纯金属膜的真空PVD镀膜设备已经从实验性设备，进入到生产线式的量产模式。

永磁行业的PVD镀膜，需要产品翻面，来实现双面镀。一般的系统，能够实现单面镀膜的连续生产，但无法实现连续自动的双面镀膜。虽然采用人工判断、翻面及启停弧源等操作，可以进行双面镀，但这样的控制方法，不仅不能提高设备的镀膜效率，反而增加维护人员的工作量和管理成本，甚至出现工艺生产错误。

发明内容

有鉴于此，本申请提供了一种PVD设备的双面镀膜控制方法、装置及系统，主要目的在于解决在控制执行PVD设备的双面镀膜时，采用人工判断、翻面及启停弧源等方式，导致人工成本较高，且镀膜效率较低、误差率较大的问题。

依据本申请的一个方面，提供了一种PVD设备的双面镀膜控制方法，该方法包括：

利用前升降料台系统接收用于盛装目标物料的目标料盘，并采集所述目标料盘的工作信息；

基于所述工作信息控制翻转台系统以及镀膜主机执行所述目标物料下的双面镀膜操作。

优选地，所述前升降料台系统包括前升降料台、图片采集装置；

所述利用前升降料台系统接收用于盛装目标物料的目标料盘，并采集所述目标料盘的工作信息，具体包括：

通过发送进料指令，控制所述前升降料台接收用于盛装目标物料的目标料盘；

在判定所述目标物料上料完成后，控制将所述前升降料台运行至工作位；

利用所述图片采集装置识别所述前升降料台运行至工作位时，对应所述目标料盘的料盘孔号；

依据所述料盘孔号记录所述目标料盘的连续执行次数。

优选地，所述基于所述工作信息控制翻转台系统以及镀膜主机执行所述目标物料下的双面镀膜操作，具体包括：

根据所述执行次数输出用于执行双面镀膜操作的控制指令；

基于所述控制指令控制所述翻转台系统以及镀膜主机执行所述目标物料下的双面镀膜操作。

优选地，所述根据所述执行次数输出用于执行双面镀膜操作的控制指令，其特征在于，包括：

若判定所述执行次数为1，则输出用于执行第一面镀膜操作的第一控制指令；

若判定所述执行次数为2，则输出用于执行第二面镀膜操作的第二控制指令。

优选地，所述基于所述控制指令控制所述翻转台系统以及镀膜主机执行所述目标物料下的双面镀膜操作，其特征在于，包括：

若判定所述执行次数为1，则基于所述第一控制指令，控制将所述目标料盘中的目标物料经过翻转台系统，流转至镀膜主机并执行所述第一面镀膜操作；