[发明专利]一种用于同位素分离系统的静电聚焦和加速系统及方法有效

专利信息
申请号: 202011395358.0 申请日: 2020-12-01
公开(公告)号: CN112516797B 公开(公告)日: 2022-09-16
发明(设计)人: 孙良亭;刘玉国;武启;刘建立;陈沁闻 申请(专利权)人: 中国科学院近代物理研究所
主分类号: B01D59/38 分类号: B01D59/38
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 王胥慧
地址: 730013 甘*** 国省代码: 甘肃;62
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 同位素 分离 系统 静电 聚焦 加速 方法
【说明书】:

发明涉及一种用于同位素分离系统的静电聚焦和加速系统及方法,其特征在于,包括静电聚焦透镜和静电加速管;所述静电聚焦透镜固定设置在真空室内,包括第一地电极、中间电极和第二地电极;所述第一地电极、中间电极和第二地电极依次平行间隔设置,用于对从离子源引出的条形束流通过减加速过程进行聚焦;所述静电加速管固定连接所述真空室的出口,包括加速电极和绝缘陶瓷筒;若干所述加速电极平行间隔设置,且两两所述加速电极之间均通过一所述绝缘陶瓷筒连接,所述加速电极用于匹配聚焦后的束流,对聚焦后的束流进行加速,本发明可以广泛应用于离子源技术领域中。

技术领域

本发明是关于一种用于同位素分离系统的静电聚焦和加速系统,属于离子源技术领域。

背景技术

采用电磁分离法分离生产同位素起源于20世纪30年代末,在上世纪40年代的曼哈顿工程中,电磁分离器被用于大规模生产235U同位素。继美国后,英国、苏联、法国以及中国均建立了相关的电磁同位素分离装置。

传统的电磁分离器中同位素束流从离子源引出后直接进入分离磁铁进行分离,因此,引出束流能量由离子源引出系统高压决定,一般为几十kV。当离子源引出强流离子束时,束流因为空间电荷效应的影响,具有较大的初始发散角,同时在传输过程中由于空间电荷效应的影响,导致束流包络较大,因此,收集盒处同位素束束流斑较大,造成分离磁铁分辨率下降,进一步导致同位素分离纯度下降,同时,较大的束流包络也需要较大的同位素分离磁铁真空盒尺寸,增加了同位素分离系统的建造成本。

发明内容

针对上述问题,本发明的目的是提供一种能够增加分离磁铁分辨率且提高同位素分离纯度的用于同位素分离系统的静电聚焦和加速系统。

为实现上述目的,本发明采取以下技术方案:一种用于同位素分离系统的静电聚焦和加速系统,包括静电聚焦透镜和静电加速管;

所述静电聚焦透镜固定设置在真空室内,包括第一地电极、中间电极和第二地电极;所述第一地电极、中间电极和第二地电极依次平行间隔设置,用于对从离子源引出的条形束流通过减加速过程进行聚焦;

所述静电加速管固定连接所述真空室的出口,包括加速电极和绝缘陶瓷筒;若干所述加速电极平行间隔设置,且两两所述加速电极之间均通过一所述绝缘陶瓷筒连接,所述加速电极用于匹配聚焦后的束流,对聚焦后的束流进行加速。

进一步地,所述静电聚焦透镜还包括支撑架,所述支撑架的顶部固定连接所述真空室的顶部,所述支撑架上依次平行间隔设置所述第一地电极、中间电极和第二地电极。

进一步地,所述支撑架包括横向支撑杆和竖向支撑杆;

两所述横向支撑杆分别固定连接所述第一地电极、中间电极和第二地电极的直线侧一端,每一所述横向支撑杆的中部均固定连接一所述竖向支撑杆的一端,每一所述竖向支撑杆的另一端均固定连接所述真空室顶部的固定法兰。

进一步地,所述静电加速管还包括屏蔽环,每一所述加速电极的弧形侧两端均设置有所述屏蔽环,所述屏蔽环用于降低离子束对所述绝缘陶瓷筒内壁的轰击。

进一步地,所述第一地电极、中间电极、第二地电极和加速电极均采用椭圆跑道型结构。

进一步地,所述横向支撑杆采用绝缘材料。

进一步地,所述第一地电极和第二地电极具有相同的电势,所述中间电极与所述第一地电极和第二地电极之间具有电势差。

一种用于同位素分离系统的静电聚焦和加速方法,包括以下内容:

1)通过真空泵对真空室抽真空;

2)从离子源引出的条形强流离子束通过离子源引出电极进入真空室;

3)条形强流离子束依次通过真空室内的第一地电极、中间电极和第二地电极进行聚焦;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院近代物理研究所,未经中国科学院近代物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011395358.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top