[发明专利]一种实现透过散射介质成像的双偏振相位共轭方法在审

专利信息
申请号: 202011383485.9 申请日: 2020-12-01
公开(公告)号: CN112305886A 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 于雪莲;江攀;王康维;杨文蕾;班江;杨思敏;张鑫 申请(专利权)人: 哈尔滨理工大学
主分类号: G03H1/02 分类号: G03H1/02;G03H1/04;G03H1/22
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 150000 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 一种 实现 透过 散射 介质 成像 偏振 相位 共轭 方法
【权利要求书】:

1.一种实现透过散射介质成像的双偏振相位共轭方法,其特征在于,所使用的装置包括:激光器;衰减片;显微物镜;针孔;第一凸透镜;第一偏振片;第一1/2波片;第一反射镜;偏振分光棱镜;第一分光棱镜;空间光调制器;光阑;第二分光棱镜;第二凸透镜;第一CMOS相机;目标物;第二反射镜;第三凸透镜;散射介质;第四凸透镜;第二偏振片;第五凸透镜;第六凸透镜;第二1/2波片;第三分光棱镜;第二CMOS相机;第三反射镜。

2.一种实现透过散射介质成像的双偏振相位共轭方法,其特征在于,所述方法包括:全息记录过程、共轭回放过程和图像相加过程;

其中,所述的全息记录过程使用四步相移全息术,通过所述第二偏振片改变散射光的偏振方向,在所述第二CMOS相机上分别记录所述散射光在水平偏振和垂直偏振方向下与参考光的干涉相移图,之后使用四步相移算法分别计算水平偏振方向散射光的相位和垂直偏振方向散射光的相位;

所述的共轭回放过程计算水平偏振方向散射光的共轭相位和垂直偏振方向散射光的共轭相位,并依次加载至所述空间光调制器上,所述参考光在所述空间光调制器上被调制,产生相位共轭光并逆向透过所述散射介质,在所述第一CMOS相机上依次拍摄水平偏振方向散射光的共轭回放结果和垂直偏振方向散射的光共轭回放结果;

所述的图像相加过程利用所述水平偏振方向散射光的共轭回放结果和所述垂直偏振方向散射的光共轭回放结果相加,由于得到的所述散射光信息更加全面,能得到更好的所述目标物成像结果,提高透过散射介质成像的质量。

3.根据权利要求2所述的一种实现透过散射介质成像的双偏振相位共轭方法,其特征在于,所述的全息记录过程中,所述散射光的偏振方向可由所述第二偏振片控制,所述参考光的偏振方向可由所述第二1/2波片控制;

所述空间光调制器、所述第五凸透镜、所述第六凸透镜、所述第二CMOS相机构成4f系统;所述空间光调制器、所述第五凸透镜、所述第六凸透镜、所述第三反射镜构成4f系统,

所述目标物由所述第三凸透镜成像到所述散射介质上,所述散射介质由所述第四凸透镜成像到所述第二CMOS相机上,所述散射介质由所述第四凸透镜成像到所述第三反射镜。

4.根据权利要求2所述的一种实现透过散射介质成像的双偏振相位共轭方法,其特征在于,所述共轭回放过程具体为:

将所述水平偏振方向散射光的共轭相位加载到所述空间光调制器上,使用所述第二1/2波片将所诉共轭相位光的偏振方向调整到水平偏振方向,将所述第二偏振片的偏振方向调整到水平偏振方向,在所述第一CMOS相机上拍摄所述水平偏振方向散射光的共轭回放结果;将所述垂直偏振方向散射光的共轭相位加载到所述空间光调制器上,使用所述第二1/2波片将所述共轭相位光的偏振方向调整到垂直偏振方向,将所述第二偏振片的偏振方向调整到垂直偏振方向,在所述第一CMOS相机上拍摄所述垂直偏振方向散射光的共轭回放结果。

5.根据权利要求2所述的一种实现透过散射介质成像的双偏振相位共轭方法,其特征在于,所述图像相加过程具体为:

将所述第一CMOS相机拍摄的所述水平偏振方向散射光的共轭回放结果和所述垂直偏振方向散射的光共轭回放结果相加,得到最终的成像结果。

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