[发明专利]除错系统在审

专利信息
申请号: 202011363695.1 申请日: 2020-11-27
公开(公告)号: CN114547705A 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 王婕妤;李朝明;彭作辉 申请(专利权)人: 瑞昱半导体股份有限公司
主分类号: G06F21/72 分类号: G06F21/72;G06F21/75
代理公司: 北京市君合律师事务所 11517 代理人: 毕长生;王再芊
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 除错 系统
【权利要求书】:

1.一种除错系统,包括:

一待测芯片,包括:

一第一待测电路,用于执行一第一功能;

一除错接口;

一除错存取电路,耦接于所述第一待测电路及所述除错接口;及

一除错保护电路,耦接于所述第一待测电路及所述除错存取电路,用于在一第一保护功能未被启动时,开通所述除错存取电路及所述第一待测电路之间的通信,及在所述第一保护功能被启动时,阻断所述除错存取电路及所述第一待测电路之间的通信,及根据所述除错存取电路所传来的一第一写入信息判断是否停止所述第一保护功能;及

一除错控制器,选择性地耦接于所述除错接口,用于在所述第一保护功能被启动时,通过所述除错存取电路将所述第一写入信息传送至所述除错保护电路,及在所述第一保护功能未被启动时,通过所述除错存取电路存取所述第一待测电路的数据以对所述第一待测电路进行除错。

2.根据权利要求1所述的除错系统,其特征在于:所述除错存取电路包括:

一控制接口,耦接至所述除错保护电路;及

一高速接口,耦接至所述第一待测电路,所述高速接口的一传输速度大于所述控制接口的一传输速度。

3.根据权利要求1所述的除错系统,其特征在于:

所述第一写入信息包括一除错密钥;及

所述除错保护电路还用于储存一保护密钥;及

在所述第一保护功能被启动时,所述除错保护电路比较所述除错密钥及所述保护密钥,及当所述除错密钥及所述保护密钥吻合时,开通所述除错存取电路及所述第一待测电路之间的通信以停止所述第一保护功能。

4.根据权利要求3所述的除错系统,其特征在于:所述待测芯片还包括一一次性写入内存,及所述除错保护电路将所述保护密钥储存在所述一次性写入内存。

5.根据权利要求3所述的除错系统,其特征在于:

所述第一待测电路还用于产生所述保护密钥,及将所述保护密钥传送至使所述除错保护电路以使所述除错保护电路储存所述保护密钥。

6.根据权利要求3所述的除错系统,其特征在于:

在所述第一保护功能被启动时,当所述除错控制器连续传送一预定数量的第一写入信息至所述除错保护电路,且所述预定数量的第一写入信息中的多个除错密钥均与所述保护密钥相异时,所述除错保护电路停止根据所述第一写入信息判断是否停止所述第一保护功能,并维持启动所述第一保护功能。

7.根据权利要求1所述的除错系统,其特征在于:

所述第一待测电路包括一除错管理单元,耦接于所述除错存取电路及所述除错保护电路;及

所述除错保护电路通过控制所述除错管理单元以阻断或开通所述除错存取电路及所述第一待测电路之间的通信。

8.根据权利要求1所述的除错系统,其特征在于,所述除错系统还包括:

一第二待测电路,耦接于所述除错存取电路及所述除错保护电路,用于执行一第二功能;

所述除错控制器还用于在一第二保护功能被启动时,通过所述除错存取电路将一第二写入信息传送至所述除错保护电路,及在所述第二保护功能未被启动时,通过所述除错存取电路存取所述第二待测电路的数据以对所述第二待测电路进行除错。

9.根据权利要求8所述的除错系统,其特征在于:

所述第一保护功能及所述第二保护功能是同步启动及结束;或

所述第一保护功能及所述第二保护功能是独立控制。

10.根据权利要求8所述的除错系统,其特征在于:

所述第一写入信息包括一第一除错密钥,及所述第二写入信息包括一第二除错密钥;

所述除错保护电路还用于储存一第一保护密钥及一第二保护密钥;

在所述第一保护功能被启动时,所述除错保护电路比较所述第一除错密钥及所述第一保护密钥,及当所述第一除错密钥及所述第一保护密钥吻合时,开通所述除错存取电路及所述第一待测电路之间的通信以停止所述第一保护功能;及

在所述第二保护功能被启动时,所述除错保护电路比较所述第二除错密钥及所述第二保护密钥,及当所述第二除错密钥及所述第二保护密钥吻合时,开通所述除错存取电路及所述第二待测电路之间的通信以停止所述第二保护功能。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞昱半导体股份有限公司,未经瑞昱半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011363695.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top