[发明专利]井筒除垢方法、系统、装置及计算机存储介质

权利要求书

1.一种井筒除垢方法，其特征在于，所述方法包括：

控制混合液通过除垢管注入井筒内，以通过所述混合液清除所述井筒内的污垢，所述混合液包括饱和溶液和溶质颗粒，所述饱和溶液为所述溶质颗粒溶于溶剂后得到；

在停止向所述井筒内注入所述混合液后，控制所述溶剂通过除垢管注入井筒内，以通过所述溶剂将清除掉的污垢和所述混合液中未溶解的溶质排出所述井筒。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法包括：

控制连接所述除垢管的连续管匀速在所述井筒内下放；

在所述连续管匀速下放的过程中，执行控制混合液通过除垢管注入井筒内的步骤。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

在确定所述连续管下放的深度超过参考深度时，停止向所述井筒内注入所述混合液。

4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述匀速下放的速度为1～2m/min。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述溶质颗粒为盐粒，所述溶剂为清水，所述饱和溶液为饱和盐水。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述混合液注入所述井筒内的排量为参考排量；

所述参考排量与所述井筒内的污垢深度、厚度以及与所述除垢管连接的连续管所能允许的最大排量中的一者或多者有关。

7.一种井筒除垢系统，其特征在于，所述系统包括加压泵、磨料供给泵、饱和溶液罐、混合罐以及溶剂罐；

所述加压泵分别和所述饱和溶液罐和所述混合罐连接，所述磨料供给泵还与所述混合罐连接，所述加压泵还与所述溶剂罐连接；

所述加压泵用于将所述饱和溶液罐中的饱和溶液注入所述混合罐中，所述磨料供给泵用于将溶质颗粒注入所述混合罐中，所述混合罐用于存贮混合液，所述混合液包括饱和溶液和溶质颗粒，所述饱和溶液为所述溶质颗粒溶于溶剂后得到；

所述加压泵还用于将所述混合罐中的所述混合液通过除垢管注入井筒内；

所述加压泵还用于将所述溶剂罐中的所述溶剂通过除垢管注入井筒内。

8.如权利要求7所述的系统，其特征在于，所述系统还包括连续管；

所述连续管的一端分别和所述混合罐以及所述溶剂罐连接；

所述连续管的另一端和所述除垢管连接。

9.一种井筒除垢装置，其特征在于，所述装置包括：

控制模块，用于控制混合液通过除垢管注入井筒内，以通过所述混合液清除所述井筒内的污垢，所述混合液包括饱和溶液和溶质颗粒，所述饱和溶液为所述溶质颗粒溶于溶剂后得到；

所述控制模块，还用于在停止向所述井筒内注入所述混合液后，控制所述溶剂通过除垢管注入井筒内，以通过所述溶剂将清除掉的污垢和所述混合液中未溶解的溶质排出所述井筒。

10.一种计算机装置，其特征在于，所述装置包括：

处理器；

用于存储处理器可执行指令的存储器；

其中，所述处理器被配置为执行上述权利要求1至权利要求6中的任一项权利要求所述的方法的步骤。

11.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质上存储有指令，所述指令被处理器执行时实现上述权利要求1至权利要求6中的任一项权利要求所述的方法的步骤。