[发明专利]一种双面曝光系统的校正方法和曝光方法

说明书

本发明提供了一种双面曝光系统的校正方法及曝光方法，所述双面曝光系统包括校正对位系统包括至少两个对位相机，设定所述校正对位系统的一对位相机为基准相机，获取以基准相机为基准的世界坐标系；其余对位相机均统一至基准相机的世界坐标系；第一曝光系统和第二曝光系统分别曝光第一图形标记和第二图形标记至运动平台上设置的标尺；通过对位相机获取第一图形标记和第二图形标记的世界坐标，得到所述第一曝光系统和第二曝光系统的世界坐标。根据所述第一曝光系统和所述第二曝光系统的世界坐标，计算所述第一曝光系统和第二曝光系统的图形数据位置坐标信息。将各个部件的坐标系统一至同一坐标系，校正上下曝光出现的位置偏差，提升曝光精度。

技术领域

本发明涉及直写式曝光机技术领域，具体涉及一种双面曝光系统的校正方法及曝光方法。

背景技术

曝光技术广泛应用于半导体和PCB生产领域，是制作半导体器件、芯片和PCB产品的工艺步骤之一，其用于在基底表面上印刷特征图形，最终获得依据电路设计所需的图形结构。传统的光刻技术需要制作掩膜的母版或者菲林底片进行曝光操作，制作周期长，且每一版对应单一图形，不能广泛应用。为解决传统曝光技术的问题，直写曝光机构应运而生，其利用数字光处理技术，通过可编程的数字微反射镜装置实现编辑不同的图形结构，能够快速切换图形，其不仅可以降低成本，还可以减少制程的时间，正广泛应用于光刻技术领域。

最初的直写曝光机只有单台面承载基板，对基板进行曝光操作。随着直写曝光机的不断发展，以及对于直写曝光机产能的追求，先后出现了双台面直写曝光机和双面直写曝光机，双台面直写曝光机虽然能够同时曝光两个基板，提高产能，但是对于两面均需要进行曝光操作的基板，必须在完成基板的一侧曝光后，再通过翻板和转移机构才能使得基板的另一侧完成曝光操作，这一过程需要经历两次上下板、两次对位和两次曝光，运行操作较复杂。而双面直写曝光机可以采用一个台面同时对一块基板的两面进行曝光，操作更加简便，效率更高。但由于双面直写曝光机存在两套曝光、对位系统，坐标系的不统一会导致基板正反两面图形出现偏差，无法满足高精度的应用需求。

发明内容

针对上述问题，本发明提供了一种双面曝光系统的校正方法和曝光方法，提高曝光机的曝光精度。

其技术方案是这样的：一种双面曝光系统的校正方法，所述双面曝光系统包括运动平台和曝光系统，所述曝光系统包括位于所述运动平台的相对两侧的第一曝光系统和第二曝光系统，所述双面曝光系统还包括校正对位系统，所述校正对位系统包括至少两个对位相机，所述对位相机位于所述运动平台的相对两侧，获取所述第一曝光系统和第二曝光系统的世界坐标，并对运动平台上的基板进行对位，设定所述校正对位系统的一对位相机为基准相机，获取以基准相机为基准的世界坐标系；所述校正对位系统中除基准相机外的其余对位相机均统一至基准相机的世界坐标系；第一曝光系统和第二曝光系统分别曝光第一图形标记和第二图形标记至运动平台上设置的标尺；通过所述校正对位系统的对位相机获取第一图形标记和第二图形标记的世界坐标，得到所述第一曝光系统和第二曝光系统中曝光镜头的世界坐标。

进一步的，所述基准相机抓取所述标尺上的标记点，获得所述标记点在世界坐标系中的坐标；其余对位相机分别运动至相应位置获取所述标记点的坐标信息，将其余对位相机运动至运动轴的位置转化为其余对位相机在该位置的世界坐标。