[发明专利]一种双面曝光系统的校正方法和曝光方法在审

专利信息
申请号: 202011312520.8 申请日: 2020-11-20
公开(公告)号: CN114518695A 公开(公告)日: 2022-05-20
发明(设计)人: 刘栋;李伟成;张雷 申请(专利权)人: 苏州源卓光电科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215026 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 双面 曝光 系统 校正 方法
【权利要求书】:

1.一种双面曝光系统的校正方法,所述双面曝光系统包括运动平台和曝光系统,所述曝光系统包括位于所述运动平台相对两侧的第一曝光系统和第二曝光系统,其特征在于:所述双面曝光系统还包括校正对位系统,所述校正对位系统包括至少两个对位相机,所述对位相机位于所述运动平台的相对两侧,获取所述第一曝光系统和第二曝光系统的世界坐标,并对运动平台上的基板进行对位,设定所述校正对位系统的任一对位相机为基准相机,确定以基准相机为基准的世界坐标系;将所述校正对位系统中除基准相机外的其余对位相机的坐标均统一至基准相机的世界坐标系;第一曝光系统和第二曝光系统分别曝光第一图形标记和第二图形标记至设置于运动平台上的标尺;通过所述校正对位系统的对位相机获取第一图形标记和第二图形标记的世界坐标,得到所述第一曝光系统和第二曝光系统中曝光镜头的世界坐标。

2.根据权利要求1所述的校正方法,其特征在于:所述基准相机抓取所述标尺上的标记点,获得所述标记点在世界坐标系中的坐标;其余对位相机分别运动至相应位置获取所述标记点的坐标信息,将其余对位相机运动至运动轴的位置转化为其余对位相机在该位置的世界坐标。

3.根据权利要求1或2所述的校正方法,其特征在于:选取所述标尺上的至少一个标记点为基准点,所述基准相机获取所有基准点的世界坐标值,记录其余对位相机获取相应基准点的坐标,根据其余对位相机的任意位置的坐标与所述记录的相应基准点位置的坐标的差值结合所述基准点的世界坐标值获得所述待校正相机任意位置的世界坐标值。

4.根据权利来要求1所述的校正方法,其特征在于:所述第一曝光系统曝光第一图形标记至所述标尺后,所述校正对位系统的对位相机抓取所述第一图形标记的世界坐标;在扫描方向上移动所述运动平台,所述第二曝光系统曝光第二图形至所述标尺,所述校正对位系统的对位相机抓取所述第二图形标记的世界坐标。

5.根据权利要求1所述的校正方法,其特征在于:所述第一曝光系统曝光第一图形标记至所述标尺,所述校正对位系统的对位相机抓取所述第一图形标记的世界坐标,待第一图形标记于标尺上消失后,所述第二曝光系统曝光第二图形标记至所述标尺,所述校正对位系统的对位相机抓取所述第二图形标记的世界坐标。

6.根据权利要求4或5所述的校正方法,其特征在于:根据第一图形标记和第二图形标记的世界坐标结合运动平台的移动距离计算所述第一曝光系统和第二曝光系统中曝光镜头的世界坐标。

7.一种双面曝光系统的校正方法,所述双面曝光系统包括运动平台和曝光系统,所述曝光系统包括位于所述运动平台的相对两侧的第一曝光系统和第二曝光系统,其特征在于:所述双面曝光系统还包括校正对位系统,所述校正对位系统包括至少一个对位相机,设定其中一对位相机为基准相机,获取以基准相机为基准的世界坐标系;第一曝光系统和第二曝光系统分别曝光第一图形标记和第二图形标记至设置于运动平台上的标尺;通过基准相机获取第一图形标记和第二图形标记的世界坐标,得到所述第一曝光系统和第二曝光系统中曝光镜头的世界坐标。

8.根据权利要求7所述的校正方法,其特征在于:所述第一曝光系统曝光第一图形标记至所述标尺后,所述基准相机抓取所述第一图形标记的世界坐标;在扫描方向上移动所述运动平台,所述第二曝光系统曝光第二图形至所述标尺,所述基准相机抓取所述第二图形标记的世界坐标。

9.根据权利要求7所述的校正方法,其特征在于:所述第一曝光系统曝光第一图形标记至所述标尺,所述基准相机抓取所述第一图形标记的世界坐标,待第一图形标记于标尺上消失后,所述第二曝光系统曝光第二图形标记至所述标尺,所述基准相机抓取所述第二图形标记的世界坐标。

10.根据权利要求8或9所述的校正方法,其特征在于:根据第一图形标记和第二图形标记的世界坐标结合运动平台的移动距离计算所述第一曝光系统和第二曝光系统中曝光镜头的世界坐标。

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