[发明专利]一种设施蔬菜简易基质栽培系统及应用方法

说明书

本发明提供了一种设施蔬菜简易基质栽培系统，包括栽培槽和灌溉装置。所述栽培槽底部设有渗滤层，两侧铺设有电加热带，栽培基质中埋有土壤温度传感器和水分传感器，微喷带置于栽培基质中上部，作物交错定植于微喷带两侧；在生产过程中，根据传感器的监测情况，在内置程序的控制下实现根际精准控温和灌溉。实施例结果显示，本发明提供的一种设施蔬菜简易基质栽培系统有效地提高了蔬菜的产量和品质。

技术领域

本发明涉及一种设施蔬菜简易基质栽培系统及应用方法，属于农业生产领域。

背景技术

设施农业作为现代农业主要形式之一，近年来得到了大力发展。与此同时，随着世界人口和经济活动的增长，人们对于农产品的需求也不断增加；因此，提高土地利用率和复种指数成为目前农业的主要趋势。但由于设施内环境相对密闭性的特点，加之农民种植习惯和经济利益驱使等因素，单一作物种植和水肥高投入已成为设施蔬菜种植常态，进而导致设施内生态环境恶化，土壤连作障碍问题日益突出，限制设施蔬菜可持续发展。无土栽培虽然能解决这一问题，但传统营养液型无土栽培技术较难掌握，且投入成本高，不利于在实际生产中大面积推广应用。目前应用的有机生态型无土栽培技术在一定程度上克服了上述缺点，但由于栽培槽往往利用塑料薄膜与土层隔离，易造成基质透气透水性较差；且灌溉装置、加温装置可控性、实用性不够。

发明内容

本发明针对现有技术的不足，提供了一种设施蔬菜简易基质栽培系统及应用方法，通过在栽培槽底部设置渗滤层，两侧铺设有电加热带，栽培基质中埋有土壤温度传感器和水分传感器，微喷带置于栽培基质中上部，作物交错定植于微喷带两侧，可根据传感器的监测情况，在内置程序的控制下实现精准控温和灌溉栽培，有效提高农作物产量。

为了实现上述发明目的，本发明提供以下技术方案：

本发明提供了一种设施蔬菜简易基质栽培系统，包括栽培槽和灌溉装置；

所述栽培槽为地下半封闭式，两侧铺设有电加热带，并用黑白膜将栽培基质与土层隔离，其底部填充3—5cm厚度炉渣作为渗滤层，用无纺布铺设其上，覆盖20cm厚的栽培基质，栽培基质内设有土壤温度传感器；

所述灌溉装置包括储液桶、过滤器、调节阀、输液管、水泵、电磁阀、微喷带、控制器、土壤水分传感器。

所述栽培槽南北走向，上口径宽为50cm，下口径宽为35cm，深为25cm。

所述栽培基质是将粉碎的笋壳、水稻秸秆、菌渣、鸡粪按体积比7—8：7—8：7—8：6—9配制而成。

所述栽培槽中的电加热带和土壤温度传感器与控制器连接。

所述灌溉系统中的输液管安装有水泵和电磁阀，并与控制器连接。

所述灌溉系统中的土壤水分传感器埋于栽培基质中，并与控制器连接。

所述灌溉系统中的微喷带置于栽培基质中上部。

所述控制器上设有时控开关和光伏板。

一种设施蔬菜简易基质栽培系统的应用方法，具体如下：

(1)在栽培槽中装入栽培基质，并浇水、覆盖塑料薄膜。密闭棚室，暴晒10—15天，以达到消毒目的；

(2)将微喷带置于栽培基质中上部，所述微喷带每组喷孔距离为20cm，作物交错定植于微喷带两侧。

(3)生产过程中，根据温度传感器的监测情况，通过控制器的内置程序控制控温信号继电器的通断，对栽培槽进行加温；并根据土壤水分传感器的监测情况，通过控制器的内置程序及时控开关控制水泵和电磁阀的通断，对栽培基质进行灌溉。