[发明专利]一种设施蔬菜简易基质栽培系统及应用方法

权利要求书

1.一种设施蔬菜简易基质栽培系统，其特征在于，包括栽培槽和灌溉装置；

所述栽培槽为地下半封闭式，两侧铺设有电加热带，其底部填充3—5cm厚度炉渣作为渗滤层，用无纺布铺设其上，覆盖20cm厚的栽培基质，栽培基质内设有土壤温度传感器；

所述灌溉装置包括储液桶、过滤器、调节阀、输液管、水泵、电磁阀、微喷带、控制器、土壤水分传感器。

2.根据权利要求1所述的一种设施蔬菜简易基质栽培系统，其特征在于，所述栽培槽南北走向，上口径宽为50cm，下口径宽为35cm，深为25cm。

3.根据权利要求1所述的一种设施蔬菜简易基质栽培系统，其特征在于，所述栽培基质是将粉碎的笋壳、水稻秸秆、菌渣、鸡粪按体积比7—8：7—8：7—8：6—9配制而成。

4.根据权利要求1所述的一种设施蔬菜简易基质栽培系统，其特征在于，所述栽培槽中的电加热带和土壤温度传感器与控制器连接。

5.根据权利要求1所述的种设施蔬菜简易基质栽培系统，其特征在于，所述灌溉系统中的输液管安装有水泵和电磁阀，并与控制器连接。

6.根据权利要求1所述的一种设施蔬菜简易基质栽培系统，其特征在于，所述灌溉系统中的土壤水分传感器埋于栽培基质中，并与控制器连接。

7.根据权利要求1所述的一种设施蔬菜简易基质栽培系统，其特征在于，所述灌溉系统中的微喷带置于栽培基质中上部。

8.根据权利要求1所述的一种设施蔬菜简易基质栽培系统，其特征在于，所述控制器上设有时控开关和光伏板。

9.权利要求1～8所述一种设施蔬菜简易基质栽培系统的应用方法，其特征在于：

(1)微喷带置于栽培基质中上部，所述微喷带每组喷孔距离为20cm，作物交错定植于微喷带两侧；

(2)根据土壤温度传感器的监测情况，通过控制器的内置程序控制控温信号继电器的通断，对栽培槽进行加温；

(3)根据土壤水分传感器的监测情况，通过控制器的内置程序及时控开关控制水泵和电磁阀的通断，对栽培基质进行灌溉。