[发明专利]一种桨固定装置在审
| 申请号: | 202011281031.0 | 申请日: | 2020-11-16 |
| 公开(公告)号: | CN112413127A | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
| 发明(设计)人: | 林佳继;庞爱锁;刘群;张武 | 申请(专利权)人: | 拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司 |
| 主分类号: | F16J15/16 | 分类号: | F16J15/16;F16B43/00;F27D1/18 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 214000 江苏省无锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 固定 装置 | ||
本发明涉及光伏组件装配技术领域,具体涉及一种桨固定装置,旨在解决现有技术中仅实现桨固定,但没实现与炉门密封形成的问题,其技术要点在于:包括桨外筒及桨,所述桨外筒为所述桨的外部密封部件,所述桨外筒两端分别设置有尾部盖板及炉门,所述桨一端与所述尾部盖板相互抵接设置,另外一端指向所述炉门并向外延伸设置,所述桨贯穿所述炉门设置。所述桨外筒上设置有若干支撑环,用于对所述桨的位置进行固定。通过支撑环的设置,同时实现了桨的固定及桨与炉门的密封,保证了设备的正常运转。
技术领域
本发明涉及光伏组件制备技术领域,具体涉及一种桨固定装置。
背景技术
扩散设备作为半导体器件工艺设备的重要设备之一,广泛应用于集成电路、电力电子、太阳能电池的生产等行业,在光伏行业,高温扩散炉主要用于对单晶硅片、多晶硅片进行掺杂,形成PN结。退火设备主要是进行退火、激活等作用。低压化学气相沉积(LPCVD)设备主要用于薄膜生长,可用于本征非晶硅、掺杂非晶硅、氧化硅等薄膜生长。等离子增强化学气相沉积(PECVD)设备在太阳能光伏电池工艺流程中作用主要是薄膜生长,可用于氮化硅、氧化铝、本征硅、掺杂非晶硅等薄膜生长。扩散设备、退火设备、PECVD设备共有的特征之一是都需要将装有硅片的舟推进炉管,退出炉管。
现有的常规机构,仅实现桨固定,但没实现与炉门密封。此种结构独立桨的功能,只作为载具进出。炉门单独实现开关密封。此种方式需要桨机构实现放下舟和取起舟的过程,且一个工艺流程中需要进桨、放舟、出桨、进桨、取舟、出桨多个动作。流程多,且放舟、取舟过程风险增大。且实现桨与炉门密封但桨不固定,桨插在密封筒中,在一定范围内限位,筒与炉门密封。随着设备机械结构的定位要求越来越高,安全要求越来越高,需要桨位置固定。
发明内容
因此,本发明要解决的技术问题在于克服现有技术中仅实现桨固定,但没实现与炉门密封形成的缺陷,从而提供一种桨固定装置。
本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:
1、一种桨固定装置,其特征在于:包括桨外筒及桨,所述桨外筒为所述桨的外部密封部件,所述桨外筒两端分别设置有尾部盖板及炉门,所述桨一端与所述尾部盖板相互抵接设置,另外一端指向所述炉门并向外延伸设置,所述桨贯穿所述炉门设置。所述桨外筒上设置有若干支撑环,用于对所述桨的位置进行固定。
2、根据权利要求1所述的一种桨固定装置,其特征在于:其中一所述支撑环设置在所述桨外筒指向尾部盖板一端端部,所述支撑环设置在所述桨外筒的内壁,并且,所述支撑环其中三侧内壁上分别设置有压块及调节螺栓,所述调节螺栓垂直于其自身所在侧面,用于调节压块的位置。
3、根据权利要求2所述的一种桨固定装置,其特征在于:其中一所述支撑环位于桨长度方向的中间位置处,所述支撑环设置在所述桨外筒的内壁上,所述支撑环其中三侧侧壁分别设置有贯穿孔,所述贯穿孔内设置有弹簧,所述支撑环设置有贯穿孔的侧壁分别设置有桨压块及固定块,所述桨压块位于所述支撑环的内壁,所述固定块插设在所述弹簧内,并与所述桨压块固定设置,所述桨压块上设置有用于固定所述固定块及所述桨压块的固定螺栓。
4、根据权利要求3所述的一种桨固定装置,其特征在于:所述桨外筒侧壁上设置有与所述贯穿孔相互匹配的通孔,所述通孔内设置有第一机米螺钉和第二机米螺钉,所述第一机米螺钉螺纹固定在所述通孔侧壁上,并且所述第一机米螺钉指向所述支撑环侧壁一端与所述固定块外壁相互贴合设置。
5、根据权利要求4所述的一种桨固定装置,其特征在于:所述通孔外侧还设置有密封螺母,所述密封螺母内壁设置有密封圈。
6、根据权利要求5所述的一种桨固定装置,其特征在于:所述尾部盖板上设置有若干盖板固定扣,所述尾部盖板通过所述盖板固定扣固定设置在所述桨外筒端部,所述尾部盖板内壁还设置有密封圈。
上述所述的一种
附图说明
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