[发明专利]一种适用于薄壁结构的低应力激光熔覆修复方法

权利要求书

1.一种适用于薄壁结构的低应力激光熔覆修复方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一，将熔覆层裂纹按深度分类，分为小深度缺陷和大深度缺陷；

步骤二，对于小深度缺陷，将小深度缺陷打磨成具有平面的凹槽，然后铺粉并采用冷搭接的方式进行激光熔覆，将缺陷补全与薄壁结构表面平齐；

对于大深度缺陷，首先铺设第一层粉末，然后进行点状自由搭接熔覆得到高度一致的熔覆层，冷却之后铺设第二层粉末，然后进行冷搭接式的激光熔覆，最终与薄壁结构表面平齐。

2.如权利要求1所述的适用于薄壁结构的低应力激光熔覆修复方法，其特征在于，所述冷搭接方法为：首先进行固定间隔的激光熔覆，然后再通过激光熔覆与相邻的两道熔覆搭接，所述固定间隔根据熔覆宽度和搭接率计算。

3.如权利要求1所述的适用于薄壁结构的低应力激光熔覆修复方法，其特征在于，所述小深度缺陷深度不大于4mm，大深度缺陷深度大于4mm。

4.如权利要求1所述的适用于薄壁结构的低应力激光熔覆修复方法，其特征在于，所述第一层粉末粒径＜50μm，第二层粉末粒径在50～120μm之间。

5.如权利要求1所述的适用于薄壁结构的低应力激光熔覆修复方法，其特征在于，所述步骤二中根据不同的铺粉厚度选择激光功率、搭接率、光斑直径、扫描速度及作用时间。

6.如权利要求5所述的适用于薄壁结构的低应力激光熔覆修复方法，其特征在于，进行点状自由搭接熔覆的光斑直径为6～10mm，所述扫描速度为800～1200mm/min。

7.如权利要求1所述的适用于薄壁结构的低应力激光熔覆修复方法，其特征在于，对于小深度缺陷和大深度缺陷铺设第二层粉末后的激光熔覆均采用小于1.5kW的功率。