[发明专利]一种芯片光刻显影设备

说明书

本发明公开了一种芯片光刻显影设备，其结构包括主体、控制面板、散热口，主体的顶部设有控制面板，散热口设有两个，且分别位于主体的前端与侧端，主体包括水槽、放置装置、搅拌桨、循环水管、收集装置，放置装置包括过滤网、放置板、通水孔、排水槽，排水槽包括导料块、安装槽、导向装置，导向装置包括转动轴、回卷弹簧、导料板、卡料块，本发明利用在放置装置的侧端设置过滤网将铜屑进行过滤，再利用将循环水管设置在水槽的底端对蚀刻液进行抽取，使得蚀刻液能够带动铜屑往放置排水槽的外端进行流动，最后利用导向装置的翻转功能，能够避免置于水槽中的铜屑跟随蚀刻液往放置装置内部进行流动，从而不会让反应产生的铜屑附在芯片上的情况。

技术领域

本发明涉及晶圆光刻显影领域，具体的是一种芯片光刻显影设备。

背景技术

芯片的制造中利用光学、化学反应的、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术，由于芯片的体积较小，在加工的时候对于设备的精度要求较大，需要通过专业的设备进行加工，芯片在光刻之后需要进行显影，显影时将芯片放置在装有蚀刻液的水槽中，让蚀刻液与芯片发生化学反应，使芯片中的电路进行显影。

基于上述本发明人发现，现有的一种芯片光刻显影设备主要存在以下几点不足，比如：蚀刻液与芯片进行反应的时候，芯片的表面会脱落铜屑，铜屑脱落之后置于水槽中易附在芯片的端面，使得芯片的端面受到铜屑的遮挡，导致蚀刻液与芯片端面的接触面积变小，造成芯片时刻速度变慢的情况。

发明内容

针对上述问题，本发明提供一种芯片光刻显影设备。

为了实现上述目的，本发明是通过如下的技术方案来实现：一种芯片光刻显影设备，其结构包括主体、控制面板、散热口，所述主体的顶部设有控制面板，所述散热口设有两个，且分别位于主体的前端与侧端，所述主体包括水槽、放置装置、搅拌桨、循环水管、收集装置，所述水槽设置在主体的内部侧端，所述放置装置横向安装在水槽的正中间，所述搅拌桨设置在水槽的底部，所述循环水管设有两个，且分别安装在水槽的上下两端，位于下端的循环水管能够进行抽水，所述收集装置设置在下端的循环水管中。

进一步的，所述放置装置包括过滤网、放置板、通水孔、排水槽，所述过滤网设置在放置装置的侧端顶部，所述放置板水平安装在放置装置的正中间，所述通水孔设有八个，且横向排列在放置板的左右两端，所述排水槽位于放置装置的底端，所述排水槽与水平面之间的夹角为45度。

进一步的，所述排水槽包括导料块、安装槽、导向装置，所述导料块设置在排水槽的正中间，所述安装槽设有八个，且横向排列在排水槽的上下端面，所述导向装置安装在安装槽中，所述导料块两端面的宽度由内到外逐渐变大。

进一步的，所述导向装置包括转动轴、回卷弹簧、导料板、卡料块，所述转动轴卡合在安装槽中，所述回卷弹簧嵌套在转动轴的侧端，所述导料板嵌固在转动轴的端面，所述卡料块设有两个，且分别位于导料板的端面，所述导料板的端面为圆弧状。

进一步的，所述收集装置包括导料罩、通料孔、滤料网、卡管槽、集料槽，所述导料罩设置在收集装置的顶部，所述通料孔设有八个，且横向排列在导料罩的端面，所述滤料网安装在收集装置的内部正中间，所述卡管槽位于收集装置的底部正中间，所述集料槽设于卡管槽的侧端，所述滤料网为圆锥状。

进一步的，所述集料槽包括进料口、防回流块、卡料板、通水滤网、清料门，所述进料口为锥状，且设置在集料槽的顶部，所述防回流块设有五个，且横向排列在进料口的正中间，所述卡料板设有三个，且嵌固在集料槽的内部，所述通水滤网位于集料槽的侧端底部，且贯穿于集料槽，所述清料门安装在集料槽的底部，所述卡料板与水平面之间的夹角为45度，且交错安装在集料槽的内部。

进一步的，所述防回流块包括板体、转块、复位弹簧、导流块，所述板体设有两个，且相互连接在一起，所述转块与两个板体相卡合，所述复位弹簧安装在板体的侧端，所述导流块设有六个，且以三个为一组排列在板体的上端面，所述导流块的端面为圆弧状。