[发明专利]一种基于石墨烯的标准漏孔及制备方法

权利要求书

1.一种基于石墨烯的标准漏孔，其特征在于，所述基于石墨烯的标准漏孔，包括气源室、压力侧金属刀口法兰、渗氦组件和真空侧金属刀口法兰；其中，

所述渗氦组件包括渗透部和固定部，压力侧金属刀口法兰和真空侧金属刀口法兰分别位于所述渗氦组件的两侧，与固定部密封连接；所述渗氦组件的固定部为可伐合金，设置在渗透部的两端并对渗透部的两端进行密封，且所述可伐合金为铁、镍、钴的合金，膨胀系数与石英玻璃膨胀系数差异小于阈值；

所述气源室与渗氦组件的渗透部一侧连通，连通处通过压力侧金属刀口法兰密封；所述渗氦组件的渗透部另一侧与待校准检漏系统的真空室连通，连通处通过真空侧金属刀口法兰密封；

所述渗氦组件的渗透部依次由垂直于固定部的压力侧石英玻璃、铜箔、石墨烯薄膜和真空侧石英玻璃贴合组成；所述石墨烯薄膜为多孔石墨烯或有缺陷的石墨烯；铜箔的压力侧贴合有石墨烯薄膜，真空侧具有化学腐蚀形成的通孔。

2.根据权利要求1所述的基于石墨烯的标准漏孔，其特征在于，所述石英玻璃、铜箔和可伐合金之间具有氧化钴封接面。

3.根据权利要求1或2所述的基于石墨烯的标准漏孔，其特征在于，所述石墨烯采用化学气相沉积法CVD在铜箔的压力侧上进行镀覆。

4.根据权利要求1或2所述的基于石墨烯的标准漏孔，其特征在于，所述铜箔真空侧通孔的直径为150～220nm。

5.根据权利要求1或2所述的基于石墨烯的标准漏孔，其特征在于，所述气源室提供稳定流量的氦气。

6.一种制备权利要求1所述的标准漏孔的方法，其特征在于，所述基于石墨烯的标准漏孔制备方法，包括如下步骤：

步骤S1，以铜箔为基底，将铜箔两侧随机分为压力侧和真空侧，在压力侧镀覆多孔石墨烯或缺陷石墨烯薄膜；

步骤S2，对铜箔的真空侧进行化学腐蚀，形成具有预定孔径的通孔；

步骤S3，在铜箔的两侧粘贴石英玻璃，形成依次粘贴压力侧石英玻璃层、石墨烯薄膜层、铜箔层和真空侧石英玻璃层的渗氦组件渗透部；

步骤S4，在渗氦组件渗透部的两端焊接可伐合金，将两端进行密封，形成渗氦组件；

步骤S5，在压力侧石英玻璃外设置气源室，气源室出口垂直连通于压力侧石英玻璃；气源室与压力侧石英玻璃通过压力侧金属刀口法兰密封，且法兰刀口密封于可伐合金的一侧上；

步骤S6，真空室与真空侧石英玻璃通过真空侧金属刀口法兰密封，且法兰刀口密封于可伐合金的另一侧上，制得基于石墨烯的标准漏孔。