[发明专利]一种改善抛光头研磨液结晶的方法有效
| 申请号： | 202011155005.3 | 申请日： | 2020-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN112405352B | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 尚散散;贺贤汉 | 申请（专利权）人： | 上海中欣晶圆半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B55/00 | 分类号： | B24B55/00 |
| 代理公司： | 上海申浩律师事务所 31280 | 代理人： | 赵建敏 |
| 地址： | 200444 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 改善 抛光 研磨 结晶 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种改善抛光头研磨液结晶的方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤一，剪裁现场废弃精抛研磨布，以精抛研磨布作为抛光头保护垫；
步骤二，抛光头表面擦拭干净；
步骤三，将剪裁好的抛光头保护垫粘附在所述抛光头的上表面；
所述抛光头保护垫的外径大于抛光头外径，且差值为28mm-32mm；
所述抛光头保护垫是一内开圆孔的圆形保护垫；
所述抛光头保护垫上开设有一径向延伸的割痕。
2.根据权利要求1所述的一种改善抛光头研磨液结晶的方法，其特征在于：步骤三之后，黏贴完成压去抛光头保护垫上气泡冲洗干净。
3.根据权利要求1所述的一种改善抛光头研磨液结晶的方法，其特征在于：抛光头保护垫通过纯水冲洗干净。
4.根据权利要求1所述的一种改善抛光头研磨液结晶的方法，其特征在于：所述抛光头保护垫的内径与传动主轴的外径之间差值为0mm-1mm。
5.根据权利要求1所述的一种改善抛光头研磨液结晶的方法，其特征在于：所述抛光头保护垫的圆孔的内径为130mm，所述圆形保护垫的外径为390mm。
6.根据权利要求1所述的一种改善抛光头研磨液结晶的方法，其特征在于：每5-6个月替换一次抛光头保护垫。
7.根据权利要求1所述的一种改善抛光头研磨液结晶的方法，其特征在于：步骤二，通过酒精对抛光头表面擦拭干净。
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