[发明专利]一种烹饪设备烹饪结束后的排气控制方法和烹饪设备

说明书

本发明属于烹饪设备技术领域，具体涉及一种烹饪设备烹饪结束后的排气控制方法和烹饪设备。该控制方法包括：食物烹饪结束后，进行后清扫排气；根据烹饪腔内的氧浓度C₁与排气通道内的氧浓度C₂的关系调整后清扫排气时间以排净烹饪腔内的蒸汽。该烹饪设备包括设备本体、后清扫组件、控制单元和氧浓度检测单元；所述控制单元与氧浓度检测单元、后清扫组件电性连接，用于根据烹饪腔内的氧浓度C₁与排气通道内的氧浓度C₂的关系调整所述后清扫组件的后清扫排气时间。本发明能够有效的解决目前的烹饪设备存在的无法将蒸汽完全排干净的问题。

技术领域

本发明属于烹饪设备技术领域，具体涉及一种烹饪设备烹饪结束后的排气控制方法和烹饪设备。

背景技术

目前，随着人们生活质量的提高，蒸烤箱，微蒸烤一体机，蒸箱，烤箱等烹饪设备越来越受到人们的青睐。但在对现有技术的研究和实践过程中发现当用户在进行不同食物烹饪模式结束后，后清扫组件，例如排气散热风机按照固定的后清扫时长进行烹饪腔水蒸汽排放，但由于不同的食物烹饪模式的水蒸汽产生量不同，导致用户在食物烹饪结束后打开门体存在烫伤的安全隐患

发明内容

为了解决目前的烹饪设备存在的无法将蒸汽完全排干净的问题，本发明提供一种烹饪设备烹饪结束后的排气控制方法。

本发明的另一目的是提供一种烹饪设备。

本发明的烹饪设备烹饪结束后的排气控制方法，该方法包括：

食物烹饪结束后，进行后清扫排气；

根据烹饪腔内的氧浓度C₁与排气通道内的氧浓度C₂的关系调整后清扫排气时间以排净烹饪腔内的蒸汽。

对本发明的烹饪设备烹饪结束后的排气控制方法的进一步改进之处在于，所述根据烹饪腔内的氧浓度C₁与排气通道内的氧浓度C₂的关系调整后清扫排气时间以排净烹饪腔内的蒸汽，具体包括：

根据烹饪腔内的氧浓度C₁与排气通道内的氧浓度C₂的氧浓度差值△C调整后清扫排气时间以排净烹饪腔内的蒸汽。

对本发明的烹饪设备烹饪结束后的排气控制方法的进一步改进之处在于，所述根据烹饪腔内的氧浓度C₁与排气通道内的氧浓度C₂的氧浓度差值△C调整后清扫排气时间以排净烹饪腔内的蒸汽，具体包括：

若烹饪腔内的氧浓度C₁与排气通道内的氧浓度C₂的氧浓度差值△C小于氧浓度阈值C₀，则停止后清扫排气；反之，则继续后清扫排气。

对本发明的烹饪设备烹饪结束后的排气控制方法的进一步改进之处在于，所述浓度阈值C₀为0.5％～3％。

对本发明的烹饪设备烹饪结束后的排气控制方法的进一步改进之处在于，所述浓度阈值C₀为1％。

对本发明的烹饪设备烹饪结束后的排气控制方法的进一步改进之处在于，在所述根据烹饪腔内的氧浓度C₁与排气通道内的氧浓度C₂的关系调整后清扫排气的时间之前，还包括：实时检测烹饪腔内的氧浓度C₁和排气通道内的氧浓度C₂。