[发明专利]一种氧化石墨烯/四氧化三钴复合材料及其制备方法、石墨烯基吸波材料

权利要求书

1.一种氧化石墨烯/四氧化三钴复合材料，其特征在于，包括四氧化三钴和复合在所述四氧化三钴表面的氧化石墨烯层；

所述复合包括包覆和附着；

所述四氧化三钴包括类球形四氧化三钴和/或立方体形四氧化三钴。

2.根据权利要求1所述的氧化石墨烯/四氧化三钴复合材料，其特征在于，所述氧化石墨烯/四氧化三钴复合材料具有核壳结构和负载结构；

所述氧化石墨烯与所述四氧化三钴的质量比为(0.5～20)：100；

所述氧化石墨烯层的厚度为10～20nm；

所述四氧化三钴颗粒的粒径为200～300nm；

所述氧化石墨烯/四氧化三钴复合材料颗粒的细度为75～100μm。

3.根据权利要求2所述的氧化石墨烯/四氧化三钴复合材料，其特征在于，所述氧化石墨烯/四氧化三钴复合材料中包括氧化石墨烯包覆四氧化三钴颗粒的核壳结构和四氧化三钴颗粒附着在氧化石墨烯片层上的负载结构；

所述复合在氧化石墨烯层中的四氧化三钴颗粒的个数包括一个或多个；

所述多个的数量为5～20个；

所述氧化石墨烯片层复合单个四氧化三钴颗粒，形成复合单元或所述氧化石墨烯片层复合多个四氧化三钴颗粒，形成复合单元；

所述氧化石墨烯层复合多个四氧化三钴颗粒时，具有团簇状形貌。

4.根据权利要求3所述的氧化石墨烯/四氧化三钴复合材料，其特征在于，所述氧化石墨烯片层同时独立的复合单个四氧化三钴颗粒和/或多个四氧化三钴颗粒，形成氧化石墨烯片层连接的多个独立的复合单元；

所述复合单元具有氧化石墨烯片层形成的边缘；

所述复合在所述四氧化三钴表面的氧化石墨烯层具有褶皱的形貌；

多个复合单元通过氧化石墨烯片层相连接，形成网状结构。

5.一种氧化石墨烯/四氧化三钴复合材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

A)将钴盐水溶液与有机配体混合后，得到混合溶液；

B)将上述步骤得到混合溶液和氧化石墨烯水溶液再次混合后，得到固体中间产物；

C)将上述步骤得到的固体中间产物经微波辐射后，得到氧化石墨烯/四氧化三钴复合材料。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述钴盐包括硝酸钴、二氯化钴、三氯化钴和硫酸钴中的一种或多种；

所述钴盐水溶液中钴盐与水的质量比为1：(8～26)；

所述有机配体包括2-甲基咪唑、对苯二甲酸、均苯三甲酸、4,4’-联吡啶和噻吩-2,5-二羧酸中的一种或多种；

所述有机配体具体为有机配体水溶液。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述有机配体溶液中有机配体与水的质量比为1：(5.62～16.86)；

所述钴盐水溶液与有机配体溶液的质量比为1：(8～10)；

所述混合的时间为50～120min；

所述混合为常温常压混合。

8.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述氧化石墨烯水溶液中氧化石墨烯与水的质量比为1：(500～1800)；

所述混合溶液和氧化石墨烯水溶液的质量比为1：(1.38～4.14)；

所述再次混合的时间为12～20小时；

所述再次混合的转速为200～300r/min；

所述再次混合为常温常压混合。

9.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述再次混合后还包括分离、洗涤和干燥中的一步或多步；

所述微波辐射的功率为800～1000W；

所述微波辐射的温度为300～400℃；

所述微波辐射的时间为30～90min；

所述微波辐射后还包括洗涤、干燥和研磨中的一步或多步。

10.一种吸波材料，其特征在于，包括权利要求1～4任意一项所述的氧化石墨烯/四氧化三钴复合材料或权利要求5～9任意一项所述的制备方法制备的氧化石墨烯/四氧化三钴复合材料。