[发明专利]一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备

权利要求书

1.一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备，包括釉池（1）、立式转盘（2）和关于釉池（1）对称设置的上料传送带（3）和下料传送带（4），其特征在于：所述立式转盘（2）的正面呈环形均匀等距的固定连接有四个碗坯浸釉机构；

所述碗坯浸釉机构包括支撑柱（5），所述支撑柱（5）固定连接在立式转盘（2）的正面边缘处，所述支撑柱（5）远离立式转盘（2）的一端通过转动组件转动连接有呈“L”型的碗托（6），所述碗托（6）的水平端上端开设有缓冲槽（7），所述缓冲槽（7）内沿水平直线方向固定连接有支撑杆（8），所述支撑杆（8）上对称套设有支撑环（9），两个所述支撑环（9）的相背端对称固定连接有弹簧（10），所述弹簧（10）的另一端固定连接在缓冲槽（7）对应的槽壁上，且弹簧（10）套设在支撑杆（8）上，两个所述支撑环（9）的上端环形侧壁上均铰接有传动杆（11），两根所述传动杆（11）的另一端共同铰接有与缓冲槽（7）相匹配的支撑块（12），所述支撑块（12）的上端穿过缓冲槽（7）的槽口并向外延伸，且支撑块（12）与缓冲槽（7）之间设有密封组件。

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备，其特征在于：所述转动组件包括转动杆（13），所述转动杆（13）固定连接在支撑柱（5）远离立式转盘（2）的一端，所述碗托（6）的竖直端开设有与转动杆（13）相匹配的转动孔（14），所述转动杆（13）穿过转动孔（14）设置，且碗托（6）与转动杆（13）转动连接。

3.根据权利要求1所述的一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备，其特征在于：所述密封组件包括框型的密封条（15），所述缓冲槽（7）靠近槽口一端位置的槽壁上开设有框型的密封槽（16），所述密封条（16）固定连接在密封槽（15）的槽底，所述密封条（16）的内侧壁穿过密封槽（15）的槽口并设置在支撑块（12）的侧壁上，且支撑块（12）与密封条（16）滑动连接。

4.根据权利要求1所述的一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备，其特征在于：所述支撑环（9）的下端固定连接有支撑板（18），所述支撑板（18）的下端开设有滚动槽（19），所述滚动槽（19）内设有滚动的滚珠（20），所述滚珠（20）穿过滚动槽（19）的槽口设置，且滚珠（20）滚动连接在缓冲槽（7）的槽底。

5.根据权利要求1所述的一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备，其特征在于：所述上料传送带（3）靠近釉池（1）一端位置的上端固定连接有上料支架，所述上料支架上安装有上料吸盘（21），所述下料传送带（4）靠近釉池（3）一端位置的上端固定连接有下料支架，所述下料支架上安装有卸料吸盘（22）。

6.根据权利要求2所述的一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备，其特征在于：所述转动杆（13）远离支撑柱（5）的一端固定连接有防脱块（23），所述转动杆（13）和转动孔（14）之间填充有润滑油脂。

7.根据权利要求1所述的一种陶瓷加工用立式转盘自动浸釉设备，其特征在于：所述立式转盘（2）的背面一侧设有驱动电机（24），所述驱动电机（24）的输出端通过联轴器与立式转盘（2）的背面中心处相连接。