[发明专利]清洁制造OLED使用的真空系统的方法及制造OLED的方法和设备

说明书

本公开内容提供用于清洁在制造OLED装置中使用的真空系统的方法(100)。此方法(100)包括执行预清洁以清洁真空系统的至少一部分，和使用远程等离子体源执行等离子体清洁。

本申请是申请日为2017年4月28日、申请号为201780008895.5、发明名称为“用于清洁在制造OLED装置中使用的真空系统的方法、用于在基板上真空沉积来制造OLED装置的方法及用于在基板上真空沉积来制造OLED装置的设备”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本公开内容的实施方式涉及一种用于清洁真空系统的方法、用于在基板上真空沉积的方法、用于在基板上真空沉积的设备。本公开内容的实施方式特别涉及一种在有机发光二极管装置(organic light-emitting diode,OLED)的制造中使用的方法与设备。

背景技术

用于在基板上层沉积的技术包括(例如)热蒸发、物理气相沉积(physical vapordeposition,PVD)和化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)。经涂布的基板可用于多种应用和多种技术领域。例如，经涂布的基板可以用于有机发光二极管(OLED)装置的领域。OLED可以用于制造电视屏幕、计算机监视器、移动电话、其它手持装置、及用于显示信息的类似装置。例如OLED 显示器的OLED装置可以包括一层或多层有机材料位于都沉积在基板上的两个电极之间。

OLED装置可以包括多个有机材料的堆叠，所述堆叠例如在工艺设备的真空腔室中蒸发。有机材料使用蒸发源通过荫罩掩模(shadow mask)以顺序的方式被沉积在基板上。真空腔室内部的真空条件对于沉积材料层和使用这些材料层制造的OLED装置的质量是相当重要的。

因此，需要一种方法和设备，所述方法和设备能够改善真空腔室内的真空条件。本公开内容特别旨在改善真空条件，以使沉积在基板上的有机材料层的质量可获得改善。

发明内容

鉴于上文，提供一种用于清洁在制造OLED装置中使用的真空系统的方法、用于在基板上真空沉积来制造OLED装置的方法、以及用于在基板上真空沉积来制造OLED装置的设备。本公开内容的其它方面、益处和特征从权利要求书、说明书和所附附图是显而易见的。

根据本公开内容的一个方面，提供一种用于清洁在制造OLED装置中使用的真空系统的方法。此方法包括执行预清洁以清洁真空系统的至少一部分，及使用远程等离子体源执行等离子体清洁。

根据本公开内容的另一方面，提供一种用于清洁在制造OLED装置中使用的真空系统的方法。此方法包括使用远程等离子体源来执行真空系统的至少一部分的等离子体清洁以作为最终清洁程序。

根据本公开内容的又一方面，提供一种用于在基板上真空沉积来制造 OLED装置的方法。此方法包括执行预清洁以用于清洁真空系统的至少一部分、使用远程等离子体源执行等离子体清洁以清洁真空系统的所述至少一部分、以及在基板上沉积一层或多层有机材料。

根据本公开内容的另一方面，提供一种用于在基板上真空沉积来制造 OLED装置的设备。此设备包括真空腔室、连接到真空腔室的远程等离子体源、以及连接到远程等离子体源的控制器，以执行等离子体清洁作为最终清洁程序。

实施方式还涉及用于执行所公开的方法的设备，并且包括用于进行每个方法方面的设备部件。这些方法方面可以通过硬件元件、由适当软件编程的计算机、上述两者的任何组合、或以任何其它方式来执行。再者，根据本公开内容的实施方式还涉及用于操作所描述设备的方法。用于操作所描述设备的方法包括用于执行设备的每个功能的多个方法方面。

附图说明

以可以详细理解本公开内容的上述特征的方式，可以通过参考实施方式来获得上文简要总结的本公开内容的更具体的描述。所附附图涉及本公开内容的实施方式并且说明于下：