[发明专利]光学检测设备与光学检测方法在审

专利信息
申请号: 202011047647.1 申请日: 2020-09-29
公开(公告)号: CN113125343A 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: 古振男;曹凯翔;张祥毅;李岳龙 申请(专利权)人: 由田新技股份有限公司
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;G01N21/95
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 张娜;臧建明
地址: 中国台湾新北市中*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 光学 检测 设备 方法
【说明书】:

发明提供一种光学检测设备与光学检测方法,用以检测待测物,光学检测设备包括平台、至少一侧光源、取像单元以及图像处理单元。待测物适于承载在平台上。侧光源提供平行光行经且贴近待测物的至少一表面。取像单元朝向待测物的方向以获取待测物的图像。图像处理单元电性连接取像单元以接收待测物的图像从而评估待测物的表面质量。

技术领域

本发明涉及一种检测设备与检测方法,尤其涉及一种光学检测设备与光学检测方法。

背景技术

在面板(panel)的制作过程中,因工艺上的缺陷或失误,可能导致面板点亮时产生亮点或碎亮点。因此,在面板制作完成后,皆会采用光学检测设备对面板进行检测,判断面板是否存在亮点或碎亮点,若有,则进一步取得亮点或碎亮点的所在位置,以进行补修的程序。然而,在光学检测过程中,取得的图像可能包含有面板中的亮点、面板中的碎亮点以及附着于面板上的异物等图像,一有不慎,便可能将附着在面板上的异物误判为亮点或碎亮点,从而在检测过程中产生过检(overkill)的情事。

一般来说,光学检测设备配设有侧光源,用以投射侧向光线至面板,以取得附着在面板上的异物的图像。然而,受限于侧向光线投射至面板的角度限制,难以缩减侧光源与面板之间的距离,致使投射至面板的光线的亮度不足,从而影响到检测的准确度。

发明内容

本发明是针对一种光学检测设备与光学检测方法,有助于提高检测的准确度。

根据本发明的实施例,光学检测设备用以检测待测物,包括平台、至少一侧光源、取像单元以及图像处理单元。待测物适于承载在平台上。侧光源提供平行光行经且贴近待测物的至少一表面。取像单元朝向待测物的方向以获取待测物的图像。图像处理单元电性连接取像单元以接收待测物的图像从而评估待测物的表面质量。

根据本发明的实施例,光学检测方法适用于光学检测设备,以对待测物的至少一表面进行检测。光学检测方法包括:放置待测物在光学检测设备的平台;提供至少一平行光行经且贴近待测物的至少一表面,并以取像单元获取至少一表面的检测图像,上述至少一平行光平行于至少一表面;以及通过图像处理单元对至少一表面的检测图像进行评估。

基于上述,对于放置在平台上的待测物而言,侧光源通过提供平行光,并使平行光行经且贴近待测物的至少其中一表面,且平行光平行于所述表面。据此,当所述平行光遇到表面上的异物或缺陷时,便得以因反射或散射的光线而让取像单元能获取在异物处或缺陷处的表面图像,进而传送至图像处理单元后进行评估,以确认待测物的表面质量。

在此,由于侧光源提供的是平行光,因此能不受结构的遮蔽而得以尽可能地贴近甚或接触到待测物的表面,进而让待测物上存在异物或缺陷处的图像能更加明显,进而能提供较佳识别程度的获取图像以供图像处理单元进行判断。如此一来,将能有效提高图像处理单元的识别正确率,并据以降低检测程序中的过检率与漏检率。

附图说明

包含附图以便进一步理解本发明,且附图并入本说明书中并构成本说明书的一部分。附图说明本发明的实施例,并与描述一起用于解释本发明的原理。

图1是依据本发明一实施例的光学检测设备的侧视示意图;

图2是图1的光学检测设备的构件电性关系图;

图3是图1的光学检测设备的局部俯视图;

图4是图1的光学检测设备的局部侧视放大图;

图5是光学检测方法的流程图;

图6是本发明另一实施例的光学检测设备的局部俯视图。

附图标号说明

100:光学检测设备;

110:平台;

120A:第一侧光源;

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