[发明专利]光学检测设备与光学检测方法在审
| 申请号: | 202011047647.1 | 申请日: | 2020-09-29 |
| 公开(公告)号: | CN113125343A | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
| 发明(设计)人: | 古振男;曹凯翔;张祥毅;李岳龙 | 申请(专利权)人: | 由田新技股份有限公司 |
| 主分类号: | G01N21/01 | 分类号: | G01N21/01;G01N21/95 |
| 代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 张娜;臧建明 |
| 地址: | 中国台湾新北市中*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 检测 设备 方法 | ||
1.一种光学检测设备,其特征在于,用以检测待测物,所述光学检测设备包括:
平台,所述待测物适于承载在所述平台上;
至少一侧光源,提供平行光行经且贴近所述待测物的至少一表面;
取像单元,朝向所述待测物的方向,以获取所述待测物的图像;以及
图像处理单元,电性连接所述取像单元以接收所述待测物的图像从而评估所述待测物的表面质量。
2.根据权利要求1所述的光学检测设备,其特征在于,所述平行光平行且接触所述至少一表面。
3.根据权利要求1所述的光学检测设备,其特征在于,所述至少一表面包括相对的上表面以及下表面,而所述至少一侧光源包括第一侧光源以及第二侧光源,分别提供平行光以行经且贴近所述上表面以及所述下表面,以使所述取像单元获取所述待测物的所述上表面以及所述下表面的图像。
4.根据权利要求3所述的光学检测设备,其特征在于,还包括反射组件,设置在所述平台上,所述第一侧光源提供平行光直接行经且贴近所述待测物的所述上表面,所述第二侧光源提供平行光通过所述反射组件反射后行经且贴近所述待测物的所述下表面。
5.根据权利要求3所述的光学检测设备,其特征在于,还包括框架,设置在所述平台上,且所述框架呈镂空而承载所述待测物的所述下表面,所述框架具有开口,所述第二侧光源的平行光通过所述开口进入所述框架而行经且贴近所述待测物的所述下表面,所述开口朝向所述第一侧光源。
6.根据权利要求5所述的光学检测设备,其特征在于,所述框架呈L形,所述开口同时朝向所述第一侧光源以及所述第二侧光源,所述第一侧光源以及所述第二侧光源其中之一的平行光通过所述开口进入所述框架而行经且贴近所述待测物的所述下表面。
7.一种光学检测方法,其特征在于,适用于光学检测设备,以对待测物的至少一表面进行检测,所述光学检测方法包括:
放置所述待测物在所述光学检测设备的平台;
提供至少一平行光行经且贴近所述待测物的所述至少一表面,并以取像单元获取所述至少一表面的检测图像,所述至少一平行光平行于所述至少一表面;以及
通过图像处理单元对所述至少一表面的检测图像进行评估。
8.根据权利要求7所述的光学检测方法,其特征在于,还包括:
提供第一平行光行经且贴近所述待测物的上表面,并以所述取像单元获取所述上表面的检测图像;以及
提供第二平行光行经且贴近所述待测物的下表面,并以所述取像单元获取所述下表面的检测图像。
9.根据权利要求8所述的光学检测方法,其特征在于,所述光学检测设备还包括框架,所述框架呈镂空且承载所述待测物的所述下表面的周缘,所述第二平行光通过所述框架的开口后行经且贴近所述下表面。
10.根据权利要求9所述的光学检测方法,其特征在于,所述光学检测设备还包括反射组件,设置在所述平台,所述第二平行光通过所述反射组件的反射后通过所述开口。
11.根据权利要求8所述的光学检测方法,其特征在于,所述光学检测设备还包括框架,所述框架呈镂空并呈L形,且承载所述待测物的所述下表面的周缘,所述第一平行光以及所述第二平行光其中之一通过所述框架的开口后行经且分别贴近所述上表面以及所述下表面。
12.根据权利要求7所述的光学检测方法,其特征在于,所述光学检测设备包括控制单元与两个侧光源,所述控制单元电性连接所述两个侧光源,所述光学检测方法还包括:
通过控制单元可切换地驱动所述两个侧光源,以对所述待测物的上表面或所述待测物的下表面进行检测。
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