[发明专利]一种激光直写能量校正方法及装置

说明书

本发明实施例提供一种激光直写能量校正方法及装置，激光直写能量校正方法包括：获取经微镜阵列反射后激光光束在探测器上形成的图像；根据所述图像获取所述微镜阵列中至少部分区域中微镜的亮度值；根据所述至少部分区域中微镜的亮度值获取扫描方向上每一列所述微镜的亮度积分值；根据每一列所述微镜的亮度积分值对所述微镜阵列进行能量校正。本发明实施例提供一种激光直写能量校正方法及装置，提高激光直写能量校正的精确度，从而解决亮度均匀性问题。

技术领域

本发明涉及激光直写技术，尤其涉及一种激光直写能量校正方法及装置。

背景技术

激光直写成像设备又称影像直接转移设备，是半导体及印制电路板(PCB)生产领域中有别于传统半自动曝光设备的一个重要设备。利用图形发生器取代传统成像设备的掩模板，从而可以直接将计算机的图形数据曝光到晶圆或PCB板上，节省制板时间和制作掩模板的费用，并且自身可用做掩模板的制作。且前多数厂家的设备都使用空间光调制器(SLM)作为图形发生器SLM包括数字微镜器件(DMD)和液晶显示器(LCD)，SLM包括一个可独立寻址和控制的像素阵列，每个像素可以对透射、反射或衍射的光线进行包括相位，灰度方向或开关状态的调制。

激光直写成像设备通过DMD反射成像，对投射到DMD上激光亮度均匀性有极大的要求。

目前普遍采用的激光直写能量检测方式如下:

1.在DMD上成像一张全白的图形；2.在DMD上均匀选取几个亮度采样点(数量及位置根据实际情况设定)，3.在采样点下方放置照度计对采样点的亮度进行采集，4.统计采样点的亮度。5.亮度均匀性为亮度最小值与亮度最大值的比值，在亮度测量上非采样点的数据不能纳入评估范围，亮度的均匀性取决于光学元件的加工精度及光学匀光器件的设计精度，不能即时有效解决亮度均匀性问题。

发明内容

本发明实施例提供一种激光直写能量校正方法及装置，提高激光直写能量校正的精确度，从而解决亮度均匀性问题。

第一方面，本发明实施例提供一种激光直写能量校正方法，包括：

获取经微镜阵列反射后激光光束在探测器上形成的图像；

根据所述图像获取所述微镜阵列中至少部分区域中微镜的亮度值；

根据所述至少部分区域中微镜的亮度值获取扫描方向上每一列所述微镜的亮度积分值；

根据每一列所述微镜的亮度积分值对所述微镜阵列进行能量校正。

可选地，在获取经微镜阵列反射后激光光束在探测器上形成的图像之前，还包括：

控制所述探测器的曝光时间小于预设曝光时间。

可选地，根据每一列所述微镜的亮度积分值对所述微镜阵列进行能量校正，包括：

获取所述亮度积分值中的最小值；

若一列所述微镜的所述亮度积分值大于所述最小值，则选取一列所述微镜中的第一部分微镜，使一列所述微镜中除第一部分微镜外的所有微镜的亮度积分值与所述最小值之间的差值小于预设差值；

在激光直写光刻时，控制所述第一部分微镜始终不工作，一列所述微镜中除第一部分微镜外的所有微镜处于正常工作状态。

可选地，在获取经微镜阵列反射后激光光束在探测器上形成的图像之前，还包括：

在所述微镜阵列与所述探测器之间的光路上设置亮度衰减片，所述亮度衰减片用于降低探测器接收到的激光光束的光亮度。

可选地，多个所述微镜行列排布为矩阵，多个所述微镜的矩阵列方向平行于所述扫描方向。

可选地，多个所述微镜行列排布为矩阵，多个所述微镜的矩阵列方向与所述扫描方向之间的夹角大于0°且小于90°。