[发明专利]干燥装置、干燥方法、清洗干燥系统及清洗干燥方法

权利要求书

1.一种干燥装置，用于对通过刻蚀形成有深孔的晶圆进行干燥，其特征在于，包括：

腔室，所述腔室设置于对所述晶圆进行刻蚀的刻蚀腔体内；

旋转吸盘，该旋转吸盘以吸附面朝下的方式倒置于所述腔室内，设置成能绕转轴旋转；

电源，该电源连接至所述旋转吸盘，向所述旋转吸盘供电；及

底座，该底座以能与所述旋转吸盘一起旋转的方式设置于所述旋转吸盘的吸附面，用于固定所述晶圆。

2.如权利要求1所述的干燥装置，其特征在于，

所述底座以静电吸附的方式固定所述晶圆。

3.如权利要求1所述的干燥装置，其特征在于，

所述腔室具有进气口和出气口，

所述干燥装置还包括真空泵，该真空泵连接至所述腔室的所述出气口，

从所述进气口向所述腔室内导入干燥气体，利用所述真空泵经由所述出气口将所述干燥气体导出至外部。

4.如权利要求3所述的干燥装置，其特征在于，

所述干燥气体是N₂气体、IPA气体、CO₂气体中的任意一种或多种。

5.如权利要求1至4中任一项所述的干燥装置，其特征在于，

还包括加热器，该加热器用于对所述腔室的内部进行加热。

6.如权利要求5所述的干燥装置，其特征在于，

所述加热器设置于所述旋转吸盘内。

7.如权利要求5所述的干燥装置，其特征在于，

所述加热器与所述旋转吸盘隔开设置。

8.一种干燥方法，用于对通过刻蚀形成有深孔的晶圆进行干燥，其特征在于，包括如下步骤：

将所述晶圆固定于底座的步骤，所述底座以能与旋转吸盘一起旋转的方式设置于所述旋转吸盘的吸附面，所述旋转吸盘以所述吸附面朝下的方式倒置于腔室内，设置成能绕转轴旋转，所述腔室设置于对所述晶圆进行刻蚀的刻蚀腔体内；及

接通电源，使所述旋转吸盘绕转轴旋转，利用重力和离心力使所述晶圆的所述深孔中的水分脱离的步骤。

9.如权利要求8所述的干燥方法，其特征在于，

所述晶圆以静电吸附的方式固定于所述底座。

10.如权利要求8所述的干燥方法，其特征在于，

还包括经由所述腔室的进气口向所述腔室内导入干燥气体，并利用真空泵经由所述腔室的出气口将所述干燥气体导出至外部的步骤。

11.如权利要求10所述的干燥方法，其特征在于，

所述干燥气体是N₂气体、IPA气体、CO₂气体中的任意一种或多种。

12.如权利要求8至11中任一项所述的干燥方法，其特征在于，

还包括利用加热器对所述腔室的内部进行加热，以加快所述晶圆的所述深孔中的水分蒸发的步骤。

13.一种清洗干燥系统，用于对通过刻蚀形成有深孔的晶圆进行清洗和干燥，其特征在于，包括：

清洗装置，该清洗装置设置于对所述晶圆进行刻蚀的刻蚀腔体内，用于清洗所述晶圆；及

如权利要求1至7中任一项所述的干燥装置。

14.如权利要求13所述的清洗干燥系统，其特征在于，

所述清洗装置利用清洗液对所述晶圆进行清洗。