[发明专利]基板处理装置

说明书

本发明能够抑制因一台分度器机械手的动作状况导致的生产量的降低。优选使用与处理区(7)的上段(UF)和下段(DF)对应的上段翻转路径单元(33)和下段翻转路径单元(35)中的靠近上段(UF)和下段(DF)的边界的搁板。这样，通过改进从一台分度器机械手向翻转路径区(31)的搬运，能够缩短一台分度器机械手在上下方向(Z)上的移动距离。因此，能够抑制因一台分度器机械手的动作状况导致的生产量的降低。

技术领域

本发明涉及对半导体晶片、液晶显示器、有机电致发光(Electroluminescence，EL)显示装置用基板、光掩模用玻璃基板、光盘用基板、磁盘用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等基板(以下，简称为“基板”)进行表面清洗、背面清洗等清洗处理的基板处理装置。

背景技术

以往，这种装置具有分度器区、具有表面清洗单元和背面清洗单元的处理区以及安装在分度器区和处理区之间的翻转路径区(例如，参照专利文献1)。

分度器区具有容纳架载置部和一台分度器机械手，该容纳架载置部载置容纳有多张基板的容纳架，该分度器机械手在容纳架和翻转路径区之间搬运基板。翻转路径区具有翻转路径单元，该翻转路径单元具有载置基板的多层搁板，并在与处理区之间交接基板、或者使基板的表面和背面翻转。处理区具有：从分度器区观察在左方从下到上具有四台表面清洗单元的四层结构的第一处理部列、从分度器区观察在右方从下到上具有四台背面清洗单元的四层结构的第二处理部列以及在表面清洗单元和背面清洗单元与翻转路径单元之间搬运基板的一台主机械手。翻转路径区具有在上下方向上分离的上部翻转路径单元和下部翻转路径单元，该上部翻转路径单元处于与上两层相对应的上段，该下部翻转路径单元处于与下两层相对应的下段。分度器机械手在向处理区搬运未处理的基板时仅经由上部翻转路径单元来搬运，在从处理区接收处理完成的基板时仅经由下部翻转路径单元来接收。

在该装置中，主机械手在处理区为一台，最近，为了提高生产量，存在搭载了与处理区中的上段的处理单元和下段的处理单元对应的两台主机械手的装置(例如，参照专利文献2)。

专利文献1：日本特开2008-166369号公报(图1、图2)

专利文献2：日本特开2016-201526号公报(图10)

然而，在具有如上结构的以往例的情况下，存在如下问题。

即，对于以往的装置，一台分度器机械手需要进入上部翻转路径单元来搬运未处理的基板，并进入下部翻转路径单元来接收处理完成的基板。因此，存在如下问题：在对基板进行清洗处理时，一台分度器机械手在上下方向上的移动距离变长，从而有时因一台分度器机械手的动作状况而导致生产量降低。

发明内容

本发明鉴于上述问题而提出，其目的在于，提供一种基板处理装置，通过改进从一台分度器机械手向翻转路径单元的搬运，能够抑制因一台分度器机械手的动作状况导致生产量的降低。

为了达到上述目的，本发明采用如下结构。

即，技术方案1记载的发明，一种基板处理装置，对基板进行清洗处理，其特征在于，包括：分度器区，具有容纳架载置部，载置容纳多张基板的容纳架，一个分度器机械手，与所述容纳架载置部的所述容纳架之间搬运基板；处理区，作为处理单元，具有进行基板的表面清洗处理的表面清洗单元以及进行基板的背面清洗处理的背面清洗单元，在上段和下段分别具有所述处理单元；以及翻转路径区，配置在所述分度器区和所述处理区之间，具有载置基板的多层搁板，并且具有使基板的表面和背面翻转的翻转功能，所述处理区在所述上段和所述下段分别具有在各所述处理单元和所述翻转路径区之间搬运基板的中央机械手，所述翻转路径区具有：上段翻转路径单元和下段翻转路径单元，所述上段翻转路径单元具有与所述上段对应的多个翻转路径部，所述下段翻转路径单元具有与所述下段对应的多个翻转路径部，所述分度器机械手以所述上段翻转路径单元的多个翻转路径部和所述下段翻转路径单元的多个翻转路径部中的靠近所述上段和所述下段的边界的翻转路径部为优先地向所述翻转路径部交接基板。