[发明专利]基板处理装置有效

专利信息
申请号: 202011019559.0 申请日: 2020-09-24
公开(公告)号: CN112570332B 公开(公告)日: 2023-01-17
发明(设计)人: 河原启之;菊本宪幸;内田雄三 申请(专利权)人: 株式会社斯库林集团
主分类号: B08B1/02 分类号: B08B1/02;B08B1/00;B08B3/02;B08B13/00
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 向勇;宋晓宝
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种基板处理装置,对基板进行清洗处理,其特征在于,

包括:

分度器区,具有容纳架载置部,载置容纳多张基板的容纳架,一个分度器机械手,与所述容纳架载置部的所述容纳架之间搬运基板;

处理区,作为处理单元,具有进行基板的表面清洗处理的表面清洗单元以及进行基板的背面清洗处理的背面清洗单元,在上段和下段分别具有所述处理单元;以及

翻转路径区,配置在所述分度器区和所述处理区之间,具有载置基板的多层搁板,并且具有使基板的表面和背面翻转的翻转功能,

所述处理区在所述上段和所述下段分别具有在各所述处理单元和所述翻转路径区之间搬运基板的中央机械手,

所述翻转路径区具有:上段翻转路径单元和下段翻转路径单元,所述上段翻转路径单元具有与所述上段对应的多个翻转路径部,所述下段翻转路径单元具有与所述下段对应的多个翻转路径部,

所述分度器机械手以所述上段翻转路径单元的多个翻转路径部和所述下段翻转路径单元的多个翻转路径部中的靠近所述上段和所述下段的边界的翻转路径部为优先地向所述翻转路径部交接基板。

2.如权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,

所述分度器机械手以将所述翻转路径部中的旋转轴作为基准靠近所述上段和所述下段的边界的搁板为优先地向所述翻转路径部交接基板。

3.如权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,

对于在所述处理区处理后的基板,所述中央机械手以所述上段翻转路径单元的多个翻转路径部和所述下段翻转路径单元的多个翻转路径部中的靠近所述上段和所述下段的边界的翻转路径部为优先地向所述翻转路径部交接基板。

4.如权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于,

对于在所述处理区处理后的基板,所述中央机械手以所述上段翻转路径单元的多个翻转路径部和所述下段翻转路径单元的多个翻转路径部中的靠近所述上段和所述下段的边界的翻转路径部为优先地向所述翻转路径部交接基板。

5.如权利要求1~4中任一项所述的基板处理装置,其特征在于,

所述分度器机械手具有:导轨,水平方向的位置被固定且立设;基台部,沿着所述导轨升降移动;多关节臂,配置于所述基台部;以及手部,在所述多关节臂的顶端部侧的臂上支撑基板,

所述手部在进入所述翻转路径区前的待机状态下位于所述上段和所述下段的边界。

6.如权利要求1~4中任一项所述的基板处理装置,其特征在于,

当仅使用所述表面清洗单元来对基板进行表面清洗处理时,所述翻转路径区仅载置基板而不翻转基板。

7.如权利要求5所述的基板处理装置,其特征在于,

当仅使用所述表面清洗单元来对基板进行表面清洗处理时,所述翻转路径区仅载置基板而不翻转基板。

8.如权利要求1~4中任一项所述的基板处理装置,其特征在于,

当使用所述表面清洗单元和所述背面清洗单元来对基板的表面和背面进行表面清洗处理和背面清洗处理时,所述翻转路径区在将基板搬入所述背面清洗单元前和搬入所述表面清洗单元前使所述基板翻转共计两次。

9.如权利要求5所述的基板处理装置,其特征在于,

当使用所述表面清洗单元和所述背面清洗单元来对基板的表面和背面进行表面清洗处理和背面清洗处理时,所述翻转路径区在将基板搬入所述背面清洗单元前和搬入所述表面清洗单元前使所述基板翻转共计两次。

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