[发明专利]一种氮化镓衬底材料的抛光液有效
申请号: | 202011008767.0 | 申请日: | 2020-09-23 |
公开(公告)号: | CN112126357B | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
发明(设计)人: | 潘国顺;陈高攀;罗海梅 | 申请(专利权)人: | 深圳清华大学研究院 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;H01L33/00 |
代理公司: | 深圳市壹壹壹知识产权代理事务所(普通合伙) 44521 | 代理人: | 师勇 |
地址: | 518000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氮化 衬底 材料 抛光 | ||
1.一种氮化镓衬底材料的抛光液,其特征在于,包括抛光颗粒、腐蚀剂、氧化剂、有序催化剂、分散稳定剂和水,各组分重量百分比含量为:
抛光颗粒 10~50wt%
腐蚀剂0.1~20wt%
氧化剂 0.01~10wt%
有序催化剂 0.0001~10wt%
分散稳定剂0.01~10wt%
水 余量;
所述有序催化剂为具备比表面积大、表面能高、多孔、多催化中心、规则的活性位分布、结构稳定、分散性好、多官能团特点中的一种或多种的复合物;
所述分散稳定剂为羟基醇,包括乙二醇、丙二醇、丁二醇、己二醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、聚乙烯醇、丙三醇中的一种或多种。
2.如权利要求1所述的氮化镓衬底材料的抛光液,其特征在于,所述抛光颗粒为氧化硅、氧化铈、金刚石、碳化硅、氮化硼、氧化锆、氧化铁中的一种或多种,粒径分布范围为0.01-20微米。
3.如权利要求1所述的氮化镓衬底材料的抛光液,其特征在于,所述腐蚀剂包括酸性腐蚀剂及碱性腐蚀剂。
4.如权利要求3所述的氮化镓衬底材料的抛光液,其特征在于,所述酸性腐蚀剂包括盐酸、硝酸、硫酸、磷酸、硼酸、碳酸酸式钾、钠盐、柠檬酸、水杨酸、羟基乙酸、草酸、苹果酸、乳酸、氨基酸中的一种或多种。
5.如权利要求3所述的氮化镓衬底材料的抛光液,其特征在于,所述碱性腐蚀剂包括氢氧化钾、氢氧化钠、氨、甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、异丙醇胺、氨基丙醇、四乙基胺、乙二胺、乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、羟胺、二乙基三胺、三乙基四胺、羟乙基乙二胺、六亚甲基二胺、二亚乙基三胺、三亚乙基四胺中的一种或多种。
6.如权利要求1所述的氮化镓衬底材料的抛光液,其特征在于,所述的氧化剂包括次氯酸、次氯酸钠、次氯酸钾、次氯酸铵、高氯酸、高氯酸钠、高氯酸钾、次溴酸、次溴酸钠、高溴酸、高溴酸钠、次碘酸、次碘酸钠、碘酸、碘酸钠、碘酸钾、高碘酸、高碘酸钠、高碘酸钾、过氧化氢、过氧化钠、过氧化钾、硝酸钠、亚硝酸钠、硝酸钾、硝酸铝、硝酸铁、过碳酸钠、过碳酸钾、过硫酸钠、过二硫酸、过二硫酸钠、过二硫酸铵、过乙酸或过苯甲酸、过氧化脲中的一种或多种。
7.如权利要求1所述的氮化镓衬底材料的抛光液,其特征在于,所述有序催化剂采用金属单质、氧化物、盐、碳、硅藻土、石墨、石墨烯、蒙脱土、蛭石、高岭土中的一种或多种经过合成处理、改性处理制备而成。
8.如权利要求7所述的氮化镓衬底材料的抛光液,其特征在于,所述合成处理包括采用固相研磨法、热蒸发法、离子溅射法、真空蒸发法、等离子蒸发法、电子束蒸发、化学气相沉积法、共沉淀法、水解沉淀法、水热和溶剂热法、微乳液法、溶剂蒸发法、模板法中的一种或多种进行处理;所述改性处理包括表面有机包覆、沉淀反应包覆、机械力化学、插层改性、物理/化学包覆、机械力化学/有机包覆、无机沉淀反应/有机包覆中的一种或多种进行处理。
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