[发明专利]光学材料填充方法及装置在审
| 申请号： | 202010997751.0 | 申请日： | 2020-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN114093986A | 公开（公告）日： | 2022-02-25 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 北京芯海视界三维科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L25/16;H01L25/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100055 北京市西城区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学材料 填充 方法 装置 | ||
1.一种光学材料填充方法，其特征在于，包括：
形成凹槽；
在欲涂布填充第一光学材料之外的凹槽填充掩膜材料；
在凹槽中填充第一光学材料。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在填充第一光学材料之后，还包括：
去除所填充的掩膜材料；
在欲填充第二光学材料之外的凹槽填充掩膜材料；
在凹槽中填充第二光学材料。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在填充第二光学材料之后，还包括：
去除所填充的掩膜材料；
在凹槽中填充第三光学材料。
4.根据权利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，所述形成凹槽为在发光单元层上形成凹槽。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述凹槽在发光单元层的出光面上。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述凹槽在所述发光单元层的发光单元的出光面上。
7.根据权利要求5或6所述的方法，其特征在于，所述凹槽为倒梯形结构，所述倒梯形结构的两个底边中相对短的底边为出光面。
8.根据权利要求1至7任一所述的方法，其特征在于，所述凹槽的侧壁垂直或不垂直。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述凹槽的侧壁设置有光反射材料。
10.根据权利要求1至9任一所述的方法，其特征在于，光学材料包括光转换材料或光散射材料。
11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述光转换材料包括量子点材料或荧光材料。
12.根据权利要求1至11任一所述的方法，其特征在于，光学材料为固态或液态。
13.根据权利要求1至12任一所述的方法，其特征在于，光学材料设置有保护层。
14.一种光学材料填充装置，包括处理器和存储有程序指令的存储器，其特征在于，所述处理器被配置为在执行所述程序指令时，执行如权利要求1至13任一所述的方法。
15.一种显示器件制作方法，其特征在于，包括如权利要求1至13任一所述的方法。
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