[发明专利]一种推扫式高光谱成像仪光谱弯曲和梯形畸变检测方法有效
| 申请号: | 202010966364.0 | 申请日: | 2020-09-15 |
| 公开(公告)号: | CN112284537B | 公开(公告)日: | 2022-07-08 |
| 发明(设计)人: | 刘成玉;何志平;徐睿;袁立银;李春来;谢佳楠;金健;王蓉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所 |
| 主分类号: | G01J3/28 | 分类号: | G01J3/28;G01M11/02 |
| 代理公司: | 上海沪慧律师事务所 31311 | 代理人: | 郭英 |
| 地址: | 200083 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 推扫式高 光谱 成像 弯曲 梯形 畸变 检测 方法 | ||
1.一种推扫式高光谱成像仪光谱弯曲和梯形畸变检测方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)制作适用于光谱弯曲检测和梯形畸变检测的参考靶标,光谱弯曲检测靶标的光谱吸收特征应丰富,吸收特征在光高光谱成像仪响应光谱范围内应分布均匀,保证每5个波段所对应的光谱范围内有一个吸收特征,靶标表面物质分布均匀,反射各项均匀,梯形畸变检测靶标应具有丰富的表面纹理,且纹理相似性低,每5个像元不少于1个特征点,组成梯形畸变检测靶标的物质在高光谱成像仪的不同波段的反射光谱形状应近似直线,每个位置的反射光谱的峰峰值小于0.05;
(2)暗背景数据测量,在模拟的高光谱成像仪在轨运行时的工作环境下,遮住仪器镜头,测量工作环境温度下的暗背景数据;
(3)光谱弯曲检测靶标成像数据测量,将光谱弯曲检测靶标放入高光谱成像仪视场内,并充满视场,用均匀的平行光照射靶标,开启高光谱成像仪,记录光谱弯曲检测靶标的成像数据;
(4)梯形畸变检测靶标成像数据测量,将梯形畸变检测靶标放入高光谱成像仪视场内,并充满视场; 用均匀的平行光照射靶标,开启高光谱成像仪,记录梯形畸变检测靶标的成像数据;
(5)成像数据处理,根据暗背景数据、高光谱成像仪的非均匀性校正系数和高光谱成像仪的辐射定标系数对测量得到的光谱弯曲检测靶标成像数据和梯形畸变检测靶标成像数据做非均匀性校正和辐射定标,得到辐射亮度数据;
(6)时间维方向平均,对成像光谱数据在时间维方向上求平均,得到一个经过多帧平均后的空间维×光谱维的图像;
(7)光谱弯曲计算,以空间维×光谱维的图像的中间列为参考,采用同名点搜索算法搜索成像数据每一个像元在光谱维方向上的同名点,所采用的同名点搜索算法精度可以达到亚像元级;
(8)梯形畸变计算,以空间维×光谱维的图像的中间行为参考,采用同名点搜索算法搜索成像数据每一个像元在空间维方向上的同名点,所采用的同名点搜索算法精度达到亚像元级。
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