[发明专利]透镜的表面处理方法及透镜、显微镜

说明书

本发明实施例提供一种透镜的表面处理方法，包括：对透镜本体的表面进行清洗和晾干；在所述透镜本体的表面沉积一层或者多层镀层，以阻止所述透镜本体中毒性离子的释放。本发明实施例在透镜本体的表面镀膜，以阻止透镜本体中毒性离子的释放，减少透镜对实验动物的影响，提高实验的准确性。

技术领域

本发明涉及材料技术领域，尤其涉及一种透镜的表面处理方法及透镜、显微镜。

背景技术

自聚焦透镜又称为Grin Lens，是折射率沿截面梯度变化的柱状光学透镜。其最早应用于光通信系统，主要是对光线进行耦合、聚焦或者准直。随着技术的不断发展，自聚焦透镜在生命科学领域逐渐得到应用，特别是脑神经领域。由于自聚焦透镜相对体积较小、成像效果好，结合微型显微镜、双光子显微镜等使用，可为脑神经研究提供重要的支撑。

虽然自聚焦透镜在脑神经领域的应用日趋广泛，但是也存在一些问题，主要体现在两个方面。第一，不同生产厂家的自聚焦透镜的材质均匀性参差不齐，成像效果千差万别。第二，当前制备自聚焦透镜的主要工艺为离子交换法，铊（Ta）离子是很重要的一种交换离子，Ta离子作为外部离子在一定温度条件下与自聚焦透镜本体中的某些离子交换得到折射率沿截面梯度变化的自聚焦透镜。由于Ta离子是重金属离子，具有较大的毒性，在进行脑神经领域的实验时，Ta离子从自聚焦透镜中释放出来会对实验动物的脑组织细胞造成损害，影响实验效果，甚至会导致实验失败。如果是自聚焦透镜的成像效果不理想，一次实验即可体现出来，但是毒性离子释放造成的影响需要长期实验后才会被发现，所以如何阻止自聚焦透镜中毒性离子的释放成为急需解决的问题。

发明内容

本发明实施例提供一种透镜的表面处理方法，旨在解决现有技术中自聚焦透镜中毒性离子释放的问题。

第一方面，提供了一种透镜的表面处理方法，包括：

对透镜本体的表面进行清洗和晾干；

在透镜本体的表面沉积一层或者多层镀层，以阻止透镜本体中毒性离子的释放。

第二方面，提供了一种透镜，包括：

透镜本体；

附着在透镜本体的表面的一层或者多层镀层；

其中，镀层阻止透镜本体中毒性离子的释放。

第三方面，提供了一种显微镜，包括如上描述的透镜。

本发明实施例在透镜本体的表面镀膜，以阻止透镜本体中毒性离子的释放，减少透镜对实验动物的影响，提高实验的准确性。

附图说明

本发明上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是本发明实施例提供的透镜的表面处理方法的流程图；

图2是本发明实施例提供的在透镜本体的表面沉积多层镀层的流程图；

图3是本发明实施例提供的镀膜完成后透镜的轴向剖面图；

图4是本发明实施例提供的相同时间不同镀膜条件下Ta离子释放速率的示意图。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的模块或具有相同或类似功能的模块。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。相反，本发明的实施例包括落入所附加权利要求书的精神和内涵范围内的所有变化、修改和等同物。

自聚焦透镜是折射率沿截面梯度变化的柱状光学透镜。由于其独特的光学特性，并且相对体积较小、成像效果好，近年来越来越多地被应用于脑神经领域的实验中，与微型显微镜、双光子显微镜结合使用。在实验过程中，自聚焦透镜的一部分被埋植到实验动物的脑部，作为微型显微镜或者双光子显微镜其中的一个物镜用于成像。