[发明专利]透镜的表面处理方法及透镜、显微镜在审
| 申请号： | 202010951135.1 | 申请日： | 2020-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN114252940A | 公开（公告）日： | 2022-03-29 |
| 发明（设计）人： | 罗哲民;潘雅楠;张天辉;何欢;师文杰 | 申请（专利权）人： | 深圳市瑞沃德生命科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B21/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518057 广东省深圳市南山区西丽街*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 透镜 表面 处理 方法 显微镜 | ||
1.一种透镜的表面处理方法，其特征在于，所述方法包括：
对透镜本体的表面进行清洗和晾干；
在所述透镜本体的表面沉积一层或者多层镀层，以阻止所述透镜本体中毒性离子的释放。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述透镜本体的表面沉积一层镀膜包括：
在所述透镜本体的表面沉积硅或者硅的氧化物；或者
在所述透镜本体的表面沉积高分子材料层。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述透镜本体的表面沉积一层或者多层镀膜包括：
在所述透镜本体的表面沉积硅或者硅的氧化物；
在所述硅或者硅的氧化物的表面沉积高分子材料层。
4.根据权利要求2或者3所述的方法，其特征在于，所述高分子材料层包括特氟龙、聚对二甲苯或者聚醚砜。
5.一种透镜，其特征在于，包括：
透镜本体；
附着在所述透镜本体的表面的一层或者多层镀层；
其中，所述镀层阻止所述透镜本体中毒性离子的释放。
6.根据权利要求5所述的透镜，其特征在于，所述镀层包括沉积在所述透镜本体的表面的硅或者硅的氧化物或者沉积在所述透镜本体的表面的高分子材料层。
7.根据权利要求5所述的透镜，其特征在于，所述镀层包括沉积在所述透镜本体的表面的硅或者硅的氧化物和沉积在所述硅或者硅的氧化物的表面的高分子材料层。
8.根据权利要求6或者7所述的透镜，其特征在于，所述高分子材料层包括特氟龙、聚对二甲苯或者聚醚砜。
9.一种显微镜，其特征在于，包括如权利要求5-8任一项所述的透镜。
10.根据权利要求9所述的显微镜，其特征在于，所述透镜为所述显微镜的物镜。
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