[发明专利]一种相机成像的补光方法有效

专利信息
申请号: 202010940645.9 申请日: 2020-09-09
公开(公告)号: CN112040139B 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 张官兴;王赟;郭蔚;黄康莹 申请(专利权)人: 绍兴埃瓦科技有限公司;上海埃瓦智能科技有限公司
主分类号: H04N5/235 分类号: H04N5/235;H04N13/128
代理公司: 北京清大紫荆知识产权代理有限公司 11718 代理人: 冯振华
地址: 311800 浙江省绍兴市陶朱*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 相机 成像 方法
【权利要求书】:

1.一种相机成像的补光方法,所述相机成像基于卷帘快门曝光方式,其特征在于,包括如下步骤:

S1:对相机所处环境进行测光,获取补光指令;

S2:根据当前帧曝光周期确定补光帧闪周期,其中,帧曝光周期包括帧曝光时间和帧曝光间隔时间,在帧曝光时间内图像传感器接收光信号,在帧间隔时间段内图像传感器停止曝光,补光帧闪周期包括点亮时间和熄灭时间,曝光周期跟频闪周期是对应的,同步控制信号来调整曝光周期的空占比,对应的调整结构光频闪的空占比;

S3:根据S1获得的补光指令,开始点亮补光灯光源,所述补光灯光源包括散斑结构光源;

S4:当前帧在一个帧曝光周期内曝光结束后,根据S1获得的补光指令关闭补光灯光源;

S5:根据S2所得的补光帧闪周期,重复上述S3和S4,

其中,所述补光指令为根据环境光测光,当现场场景光照度低于预设阈值,则控制单元点亮补光灯,并按照一定的频率进行频闪补光;若当前深度相机激活,则控制电源按照一定频率点亮结构光光源,向目标进行结构光投影;且相邻两帧至少投影一种结构光;同时可通过侦测的目标距离远近,降低结构光投影功率,或缩短曝光时长;

所述S2还包括:

S2.1:调整当前帧曝光周期;

S2.2:根据S2.1所调整的当前帧曝光周期,确定补光灯频闪周期,具体为先获取首帧图像,经图像分析模块获得不少于一个的感兴趣目标区域,基于感兴趣目标区域在图像中为边界位置,确定感兴趣区域曝光起始时刻,基于该时刻确定后续帧补光周期及起始时刻;

所述S2.1包括将场景照度划分不同照度等级,根据当前所处的场景照度等级确定曝光时间。

2.根据权利要求1所述的相机成像的补光方法,其特征在于,所述相机为双目相机,所述双目相机的双目结构光投影的成像方法包括如下步骤:

步骤1:在双目相机相邻两帧曝光期间至少投影一种空间位置不一致的结构光;

步骤2:对步骤1中得到的相邻两帧进行帧差运算和降噪处理,获得双目投影结构光图形F’;

步骤3:对双目投影结构光左右图形F’L,F’R进行双目立体匹配计算,获得初步视差信息D’(x,y),基于所得初步视差信息,在原左右图像Fk或/和Fk+1中进行立体匹配,获得精细视差信息,此时只需要在目标图像中获取初步视差时相邻两个匹配点范围内进行搜索匹配且当点内内距离小于等于最大搜索范围时以点内搜索范围为准,当点内内距大于最大搜索范围dmax时以最大搜索范围dmax为准。

3.根据权利要求2所述的相机成像的补光方法,其特征在于,在结构光左右图形F’L,F’R中选取一个为参考结构光图像,则另一图像为目标结构光图像,所述步骤3为在参考结构光图像中选取一点PL(y,x),通过双目匹配原理获得目标结构光图像中视差为D’1时匹配代价最小点PR(y,x+D’1)为对应的匹配点;

同理确定参考结构光图像中与PL(y,x)点相邻的点PL_k(y,x+k)对应的匹配点PR_k(y,x+k+D’2);

确定目标结构光图像中相邻两点点内距离范围S=(x+k+D’1)-(x+D’1)与dmax大小;

根据比较结果,确定后续立体匹配视差搜索范围。

4.根据权利要求1所述的相机成像的补光方法,其特征在于,所述S2.1包括根据当前帧中感兴趣目标远近确定曝光时间,当目标近时,压缩曝光周期中的曝光时间。

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