[发明专利]基板处理装置用过滤器装置和清洁空气供给方法

说明书

本发明提供基板处理装置用过滤器装置和清洁空气供给方法。使经由过滤器对多个并列配置的基板处理装置供给的清洁空气的温度均匀。过滤器装置具有在并列地配置的多个基板处理装置的上方设置的过滤器，该过滤器装置构成为：在所述过滤器的上方形成的管空间的在所述基板处理装置的并列方向上的一端部侧形成有空气流入口，自所述空气流入口流入的空气被在上下方向上分隔所述管空间的气流引导构件从所述气流引导构件的前面侧向所述管空间的另一端部侧引导，被引导到所述另一端部侧的空气的至少一部分向所述气流引导构件的背面侧返回，并且，该过滤器装置构成为：所述管空间内的空气经由所述过滤器向所述基板处理装置流动。

技术领域

本公开涉及基板处理装置用过滤器装置和清洁空气供给方法。

背景技术

在专利文献1记载有：将来自于设在涂布显影处理装置外的空调器的清洁的空气经由管向设于液供给系统单元部的上方的过滤器单元供给，而向各液供给系统单元部供给。

专利文献1：日本特开2007-88485号公报

发明内容

发明要解决的问题

本公开的技术使经由过滤器对多个并列配置的基板处理装置供给的清洁空气的温度均匀。

用于解决问题的方案

本公开的一技术方案的基板处理装置用过滤器装置，其具有在并列地配置的多个基板处理装置的上方设置的过滤器，该基板处理装置用过滤器装置构成为：在所述过滤器的上方形成的管空间的在所述基板处理装置的并列方向上的一端部侧形成有空气流入口，自所述空气流入口流入的空气被在上下方向上分隔所述管空间的气流引导构件从所述气流引导构件的前面侧向所述管空间的另一端部侧引导，被引导到所述另一端部侧的空气的至少一部分向所述气流引导构件的背面侧返回，并且，该基板处理装置用过滤器装置构成为：所述管空间内的空气经由所述过滤器向所述基板处理装置流动。

发明的效果

根据本公开，能够使经由过滤器对多个并列配置的基板处理装置供给的清洁空气的温度均匀。

附图说明

图1是示意地表示搭载有本实施方式的过滤器装置的涂布显影处理装置的正面的说明图。

图2是本实施方式的过滤器装置的前面侧的剖视图。

图3是本实施方式的过滤器装置的分解立体图。

图4是示意地表示本实施方式的过滤器装置的上表面的说明图。

图5是表示本实施方式的过滤器装置的流通部的立体图。

图6是示意地表示本实施方式的过滤器装置的示出作用的上表面的说明图。

图7是示意地表示应用于三连型的液处理装置的过滤器装置的上表面的说明图。

图8是表示应用于三连型的液处理装置的过滤器装置的流通部的立体图。

图9是示意地表示应用于三连型的液处理装置的过滤器装置的示出作用的上表面的说明图。

具体实施方式

在半导体器件的制造工艺中，在作为半导体装置的制造工序之一的光刻工序中，在作为基板的半导体晶圆(以下，有时记载为晶圆)形成抗蚀图案。形成有抗蚀图案的晶圆例如接着被实施蚀刻处理。

为了形成该抗蚀图案，将晶圆输送到例如进行抗蚀剂的涂布、显影的涂布显影装置并进行抗蚀剂的液处理之后，将其输送到曝光处理装置并使期望的图案曝光，之后对其施加显影处理而形成抗蚀图案。